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龙图腾网获悉苏州国微纳半导体设备有限公司申请的专利一种具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119736598B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411882842.4，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权一种具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备是由陈睿;陈以国;孟晓燕;庞浩楠设计研发完成，并于2024-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体镀膜设备技术领域，且公开了一种具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备，包括半导体镀膜机，所述半导体镀膜机的内部设有若干个排气管，所述排气管用于半导体镀膜机气体进出，所述排气管的两侧分别设有连接壳和衔接座，所述连接壳的内部开设有空腔，所述连接壳的一侧设有设有辅助结构，所述辅助结构上设置有监测结构，本发明提供的具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备具有辅助结构和监测结构，二者可以相互配合对设备管道的结晶进行监测和处理，辅助结构主要用于当管道内结晶凝结较厚时，将管道的一段拆卸打开后可以通过移动环对管道内部凝结的结晶进行清理，清洁效率高速度快，提高维修效率。

本发明授权一种具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备，包括半导体镀膜机，其特征在于：所述半导体镀膜机（1）的内部设有若干个排气管（2），所述排气管（2）用于半导体镀膜机（1）气体进出，所述排气管（2）的两侧分别设有连接壳（6）和衔接座（7），所述连接壳（6）的内部开设有空腔，所述连接壳（6）的一侧设有辅助结构（9），所述辅助结构（9）上设置有监测结构（8）； 所述辅助结构（9）包括限位环（905），所述限位环（905）的内壁与连接壳（6）空腔的底部相固定连接，所述限位环（905）的数量为两个且呈半圆状对称设置，所述限位环（905）的表面呈圆周阵列状排列设有若干个滚珠（909），所述空腔的顶部和底部均转动设有控制轮（910），所述控制轮（910）和限位环（905）的表面设有皮带（908），两个所述控制轮（910）通过皮带（908）相传动连接； 所述监测结构（8）包括红外发射器（804），所述红外发射器（804）的一侧与滑槽相滑动连接，所述红外发射器（804）的顶部设有限位螺丝（803），所述限位螺丝（803）可以控制红外发射器（804）沿着滑槽上下移动，所述衔接座（7）的顶部设有警报器（12），所述衔接座（7）的一侧固定设有活动环（802），所述活动环（802）的一侧设有卡接槽，所述卡接槽与螺纹杆（901）相适配，所述活动环（802）的一侧设有红外接收器（801），所述红外接收器（801）与红外发射器（804）相互配合使用，所述红外接收器（801）与警报器（12）相电性连接。

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