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龙图腾网获悉泉州师范学院申请的专利一种诱导任意朝向超衍射极限磁化场的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119380764B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411929800.1，技术领域涉及：G11B11/105；该发明授权一种诱导任意朝向超衍射极限磁化场的方法是由曾永西;詹其文;吴平辉;吴仲龙;周免免;林顺达设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种诱导任意朝向超衍射极限磁化场的方法在说明书摘要公布了：本发明属于磁化场定制技术领域，尤其提供了一种诱导任意朝向超衍射极限磁化场的方法。本发明只利用一只磁偶极子天线的辐射场，并在其上叠加一阶相应的空间螺旋位相，即可逆向获得光学紧聚焦系统入瞳面处矢量光场的解析表达式；采用Deby矢量衍射积分理论量化评估矢量光场的紧聚焦场，并基于逆法拉第效应，评估此紧聚焦场在磁性材料中诱导出目标磁化场的特征；本发明的方法无需复杂的优化过程，且构建出纯横向圆偏振近衍射极限光焦斑，并诱导出可规定空间朝向的超衍射极限磁化场，依本方法所定制的光焦场和所诱导的磁化场在光镊、光加工、全光磁存储等领域具有广泛的应用前景。

本发明授权一种诱导任意朝向超衍射极限磁化场的方法在权利要求书中公布了：1.一种诱导任意朝向超衍射极限磁化场的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 由两个具有共焦区的物镜建立光学紧聚焦系统； 在所述光学紧聚焦系统的共焦区放置磁偶极子天线； 计算磁偶极子天线的辐射场，在其上叠加相同空间朝向的螺旋位相因子后辐射场由光学紧聚焦系统的共焦区往外辐射，经两个相同的高数值孔径物镜准直后往光学紧聚焦系统外侧传播，并根据透镜对辐射光线的弯折效应以求得物镜入瞳面处的辐射场； 通过时间反演技术逆转此时物镜入瞳面处的辐射场，反向传播，并向两物镜共焦区原点处聚焦，以在共焦区形成相对磁偶极子天线空间朝向而言纯横向圆偏振近衍射极限光焦场；其中，光学紧聚焦系统两侧入瞳面的入射场相位相差180度； 基于逆法拉第效应，在两物镜共焦区放置磁光材料，纯横向圆偏振近衍射极限光焦场能在其中诱导出规定空间朝向的超衍射极限磁化场； 所述磁偶极子天线的总辐射场的计算方式具体如下： 根据电磁辐射理论，位于X、Y和Z轴的磁偶极子天线辐射场为： 1 空间朝向的磁偶极子天线辐射场由分别位于X、Y和Z轴的磁偶极子天线辐射场相干叠加而成，它们的辐射权重因子分别为： 2 能得到空间朝向的磁偶极子天线辐射场为： 3 其中，辐射场的常系数、辐射场分量的系数和辐射场分量的系数具体表达式分别如式4、5和6所示： 4 5 6 其中，为虚数单位，为磁偶极子天线其上磁流的振荡角频率，为真空的介电常数，为真空的波阻抗，和分别为磁偶极子天线振荡磁流的大小和几何长度，为辐射场的空间球坐标，和为球坐标的单位矢量。

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