矽万(上海)半导体科技有限公司薛兆丰获国家专利权
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龙图腾网获悉矽万(上海)半导体科技有限公司申请的专利基于菲涅尔透镜化微图文阵列结构的成像薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119805633B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510121835.0，技术领域涉及：G02B3/08；该发明授权基于菲涅尔透镜化微图文阵列结构的成像薄膜是由薛兆丰;叶文清;郑伟伟;桂成群;申溯设计研发完成，并于2025-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于菲涅尔透镜化微图文阵列结构的成像薄膜在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于菲涅尔透镜化微图文阵列结构的成像薄膜，其特征在于，包括：透明薄膜基底；复合结构微聚焦元件阵列层，设置于所述透明薄膜基底的一个表面，包括多个复合结构微聚焦元件单元，每个复合结构微聚焦元件单元通过将微图文阵列进行菲涅尔透镜化得到，从而形成为菲涅尔透镜化微图文阵列结构，相邻的所述复合结构微聚焦元件单元之间具有紫外胶层，所述紫外胶层高于所述菲涅尔透镜化微图文阵列结构；以及反射膜层，覆盖于所述菲涅尔透镜化微图文阵列结构表面。本发明中的成像薄膜，可视角大，厚度薄，菲涅尔微透镜阵列与微图文阵列形成复合结构，优化了工艺流程，降低了生产成本，可以实现具有超薄柔性特性的薄膜型成像器件。
本发明授权基于菲涅尔透镜化微图文阵列结构的成像薄膜在权利要求书中公布了：1.一种基于菲涅尔透镜化微图文阵列结构的成像薄膜，其特征在于，包括： 透明薄膜基底； 复合结构微聚焦元件阵列层，设置于所述透明薄膜基底的一个表面，包括多个复合结构微聚焦元件单元，每个复合结构微聚焦元件单元通过将微图文阵列进行菲涅尔透镜化得到，从而形成为菲涅尔透镜化微图文阵列结构，相邻的所述复合结构微聚焦元件单元之间具有光刻胶层，所述光刻胶层高于所述菲涅尔透镜化微图文阵列结构；以及， 反射膜层，覆盖于所述菲涅尔透镜化微图文阵列结构表面。
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