中国计量大学刘天宇获国家专利权
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龙图腾网获悉中国计量大学申请的专利一种高性能X射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119776006B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510255372.7,技术领域涉及:C09K11/85;该发明授权一种高性能X射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用是由刘天宇;雷磊;娄开成;周谡;邓德刚;徐时清设计研发完成,并于2025-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高性能X射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用在说明书摘要公布了:本发明涉及稀土余辉材料技术领域,公开了一种高性能X射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用,其化学组成通式为:NaLuzY0.7F4@NaLu0.8BixF4:BaYDym@NaLuzY0.7F4。该高性能X射线激发稀土余辉材料共包括内核、中间层、外壳层三层结构,内核、外壳层与中间层具有不同的基质组分,使壳层界面处形成了晶格错配。本发明能够在X射线辐照后产生很强的余辉发光,余辉性能强,余辉持续时间长,并可用于X射线成像领域。
本发明授权一种高性能X射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用在权利要求书中公布了:1.一种高性能X射线激发稀土余辉材料,其特征在于,化学组成通式为: NaLuzY0.7F4@NaLu0.8BixF4:BaYDym@NaLuzY0.7F4; 其中x为Bi的摩尔含量,0.18≤x≤0.25, Y为Ba的摩尔含量,0.1≤Y≤0.2, z为Lu的摩尔含量,0.25≤z≤0.4, m为Dy的摩尔含量,0.01≤m≤0.05。
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