全智芯(上海)技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉全智芯(上海)技术有限公司申请的专利用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119916654B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510413414.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-04-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品在说明书摘要公布了：本公开的实施例提供了用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品。该方法包括接收一组掩模图形。该方法还包括获取多个光源图形，以分别作为多个初始光源图形，其中该多个光源图形基于该组掩模图形生成。该方法还包括针对多个光源图形中的每个光源图形与该组掩模图形构成的每个光源掩模图形组合，迭代更新该光源掩模图形组合中的每个光源图形和该组掩模图形，以获得经迭代更新的光源掩模图形组合。该方法进一步包括基于与多个光源图形分别对应的多个经迭代更新的光源掩模图形组合，确定经优化的光源图形和经优化的掩模图形。
本发明授权用于光源掩模优化的方法、设备、存储介质及程序产品在权利要求书中公布了：1.一种用于光源掩模优化的方法，包括： 接收一组掩模图形； 获取多个光源图形，以分别作为多个初始光源图形，其中所述一组掩模图形包括多个目标掩模图形，并且其中所述多个光源图形中的每个光源图形基于所述多个目标掩模图形中的每个目标掩模图形的频谱信息生成，所述频谱信息由与该目标掩模图形对应的复数矩阵所指示； 针对所述多个光源图形中的每个光源图形与所述一组掩模图形构成的每个光源掩模图形组合，迭代更新所述每个光源掩模图形组合中的所述每个光源图形和所述一组掩模图形，以获得经迭代更新的光源掩模图形组合；以及 基于与所述多个光源图形分别对应的多个经迭代更新的光源掩模图形组合，确定经优化的光源图形和经优化的掩模图形。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人全智芯(上海)技术有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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