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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利一种掩膜版图的生成方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119987121B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510482831.5，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种掩膜版图的生成方法、装置、设备及存储介质是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-04-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩膜版图的生成方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体生产领域，特别是涉及一种掩膜版图的生成方法、装置、设备及存储介质。通过接收待调原始版图及对应的查找表；确定每个所述待处理分段对应的参考分段；根据所述查找表，确定各个参考分段对应的表格移动量；根据所述待处理分段的参考分段的表格移动量，确定对应的待处理分段的真实移动量；根据各个所述待处理分段对应的真实移动量，对所述待处理分段进行移动，使所述待处理图形变为待拟合图形；对所述待拟合图形的边缘进行拟合，得到调整后版图。本发明中版图中每一个分段在OPC过程中调整的移动量都受到同一个待处理图形中周边分段的制约，避免了调整后图形边缘的突然凸起或者凹陷，使调整后的图形边缘更加平滑，降低图形失真。

本发明授权一种掩膜版图的生成方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版图的生成方法，其特征在于，包括： 接收待调原始版图及对应的查找表；所述待调原始版图中包括待处理图形，每个所述待处理图形中包括多个待处理分段； 确定每个所述待处理分段对应的参考分段；所述参考分段与所述待处理分段属于同一所述待处理图形，且沿所述待处理图形的边缘分布于所述待处理分段两侧的搜索距离内； 根据所述查找表，确定各个参考分段对应的表格移动量； 根据所述待处理分段的参考分段的表格移动量，确定对应的待处理分段的真实移动量； 根据各个所述待处理分段对应的真实移动量，对所述待处理分段进行移动，使所述待处理图形变为待拟合图形； 对所述待拟合图形的边缘进行拟合，得到调整后版图； 在确定每个所述待处理分段对应的参考分段之前，还包括： 根据所述查找表，确定所述待处理分段对应的表格移动量； 根据所述待处理分段对应的表格移动量，确定所述待处理分段对应的搜索距离；其中，通过下式确定所述待处理分段对应的搜索距离： Dn＝|W0-Wn|*a+D0； 其中，Dn为第n个待处理分段的搜索距离，Wn为第n个待处理分段的表格移动量，W0为预设的基准移动量，D0为预设的基准搜索距离，a为预设的比例系数； 根据所述待处理分段的参考分段的表格移动量，确定对应的待处理分段的真实移动量，包括： 根据所述查找表，确定所述待处理分段对应的表格移动量； 根据所述待处理分段的表格移动量，及所述待处理分段对应的参考分段的表格移动量，确定对应的待处理分段的真实移动量；其中，通过下式确定所述待处理分段对应的真实移动量： WF＝WA*i+WC； 其中，WF为所述待处理分段的真实移动量，WA为所述待处理分段的全部的参考分段的表格移动量的平均值，i为预设系数，WC为所述待处理分段的表格移动量。

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