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龙图腾网获悉清华大学深圳国际研究生院申请的专利一种谱线强度修正方法、系统、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120031760B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510495265.1，技术领域涉及：G06T5/77；该发明授权一种谱线强度修正方法、系统、设备及存储介质是由王希林;简洪林;尹芳辉;贾志东;王黎明设计研发完成，并于2025-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种谱线强度修正方法、系统、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本申请适用于光谱检测技术领域，提供了一种谱线强度修正方法、系统、设备及存储介质，包括：获取样品的等离子体信息；所述样品的等离子体信息包括样品的等离子体辐射光谱的半峰全宽、等离子体事件流数据和基于等离子体事件流数据生成的事件数；根据所述等离子体事件流数据重构等离子体图像；根据所述等离子体图像提取的等离子体形状轮廓特征形成等离子体形状轮廓，并计算所述等离子体形状轮廓围成的区域的面积；将所述等离子体形状轮廓围成的区域的面积、所述事件数和所述等离子体辐射光谱的半峰全宽输入谱线强度修正模型，生成修正后的谱线强度。本申请提高了相关技术中谱线强度定量分析的准确性。

本发明授权一种谱线强度修正方法、系统、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种谱线强度修正方法，其特征在于，包括： 获取样品的等离子体信息；所述样品的等离子体信息包括样品的等离子体辐射光谱的半峰全宽、等离子体事件流数据和基于等离子体事件流数据生成的事件数； 根据所述等离子体事件流数据重构等离子体图像； 根据所述等离子体图像提取的等离子体形状轮廓特征形成等离子体形状轮廓，并计算所述等离子体形状轮廓围成的区域的面积； 将所述等离子体形状轮廓围成的区域的面积、所述事件数和所述等离子体辐射光谱的半峰全宽输入谱线强度修正模型，生成修正后的谱线强度； 所述获取样品的等离子体信息；包括： 获取动态视觉传感器生成的事件数据和事件数；事件数据包括样品在激光烧蚀产生等离子体的情况下，等离子体的亮度变化每超出所述动态视觉传感器的阈值一次，所述动态视觉传感器记录的像素数据；所述像素数据包括像素点、时间戳和事件极性；所述事件数为在一定时间内等离子体的亮度变化超出所述动态视觉传感器的阈值的累积次数； 获取动态视觉传感器基于一定时间内累积的所述事件数据生成的等离子体事件流数据。

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