季华实验室安丽获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利薄膜真空计优化方法、装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120217474B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510701746.3，技术领域涉及：G06F30/10；该发明授权薄膜真空计优化方法、装置、电子设备及存储介质是由安丽;彭冬梅;侯少毅;刘乔;杨振怀设计研发完成，并于2025-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本薄膜真空计优化方法、装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供了一种薄膜真空计优化方法、装置、电子设备及存储介质，涉及真空计结构优化技术领域。通过仿真获取不同结构参数下的多个电容数据和多个压力数据，并计算不同结构参数对应的灵敏度和线性度，根据各个灵敏度和各个线性度获取最优结构参数，最后根据最优结构参数输出对应的仿真模型以得到最终模型，从而保证选取的最终模型在灵敏度和线性度之间达到最佳平衡。
本发明授权薄膜真空计优化方法、装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种薄膜真空计优化方法，其特征在于，包括步骤： S1.基于COMSOLMultiphysics构建薄膜真空计的多个仿真模型，并对多个所述仿真模型进行仿真试验，多个所述仿真模型分别对应不同的结构参数； S2.获取仿真试验得到的各个结构参数下的多个电容数据和多个压力数据； S3.根据各个结构参数下的多个所述电容数据和多个所述压力数据获取对应的灵敏度； S4.根据各个结构参数下的多个所述电容数据和多个所述压力数据获取对应的线性度； S5.根据各个所述灵敏度和各个所述线性度获取最优结构参数； 步骤S5包括： 根据各个所述灵敏度和各个所述线性度进行加权计算并获取最小综合值； 根据所述最小综合值获取对应的最优结构参数； 所述根据各个所述灵敏度和各个所述线性度进行加权计算并获取最小综合值的步骤包括： 根据各个所述灵敏度和各个所述线性度，采用以下加权公式计算综合值： ； 式中，为第个结构参数对应的综合值，为权重系数；为权重系数；为第个结构参数对应的灵敏度；为第个结构参数对应的线性度； 比较各个所述综合值，以获取最小综合值； S6.根据所述最优结构参数输出对应的所述仿真模型以得到最终模型。
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