齐鲁工业大学(山东省科学院)张玉瑾获国家专利权
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龙图腾网获悉齐鲁工业大学(山东省科学院)申请的专利近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120280007B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510749689.6，技术领域涉及：G16C10/00；该发明授权近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统是由张玉瑾;吴胜;胡伟;赵丽云;张静设计研发完成，并于2025-06-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统，涉及荧光探针技术领域，包括：构建近红外二区荧光分子聚集体的结构，并选取聚集体内的多个代表性构象，建立包括高层区域和低层区域的分层计算模型；对多个代表性构象进行结构优化得到其稳定构型，进一步进行激发态计算，获取各代表性构象的跃迁能量参数和跃迁偶极矩参数；结合跃迁参数和代表性构象数计算近红外二区荧光分子聚集体的综合考量因子；根据综合考量因子评估近红外二区荧光分子聚集体的光吸收强度。本发明显著提升近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估的效率，为高性能近红外二区荧光分子聚集体的性能优化及实验设计提供重要的理论支持与科学依据。
本发明授权近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法，其特征在于，包括： S1：构建近红外二区荧光分子聚集体的结构，并选取聚集体内的多个代表性构象，建立包括高层区域和低层区域的分层计算模型； S2：基于建立的分层计算模型，对多个代表性构象进行结构优化得到其稳定构型，并对稳定构型进行激发态计算，获取各代表性构象的跃迁能量参数和跃迁偶极矩参数； S3：结合所述跃迁能量参数、跃迁偶极矩参数和代表性构象的个数，计算近红外二区荧光分子聚集体的综合考量因子； S4：根据所述综合考量因子评估近红外二区荧光分子聚集体的光吸收强度，筛选出光吸收强度最高的分子聚集体。
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