武汉TCL集团工业研究院有限公司李鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉TCL集团工业研究院有限公司申请的专利一种虚化照片生成方法、装置及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114155138B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010928210.2，技术领域涉及：G06T3/04；该发明授权一种虚化照片生成方法、装置及设备是由李鹏;刘阳兴设计研发完成，并于2020-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种虚化照片生成方法、装置及设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种虚化照片生成方法、装置及设备，通过获取第一拍摄图、双目视差图和拍摄的焦点位置信息，双目视差图是根据第一拍摄图和预先拍摄的第二拍摄图确定的，根据焦点位置信息和双目视差图确定双目视差图中的每个像素点对应的弥散圆半径图；利用弥散圆半径图对第一拍摄图进行虚化处理，得到虚化照片。本实施例提供的方法，利用双目视差图做景深虚化，由于视差图的动态范围较小，因此针对同一目标的视差值变化更小，从而可以很好的缓解由于深度一致性差造成的漏虚或误虚问题，为拍摄到边缘像素值更为平滑的虚化照片提供了便利。
本发明授权一种虚化照片生成方法、装置及设备在权利要求书中公布了：1.一种虚化照片生成方法，其特征在于，包括： 获取第一拍摄图、双目视差图和拍摄的焦点位置信息，所述双目视差图是根据所述第一拍摄图和预先拍摄的第二拍摄图确定的； 根据所述焦点位置信息和所述双目视差图确定所述双目视差图中的每个像素点对应的弥散圆半径图； 利用所述弥散圆半径图对所述第一拍摄图进行虚化处理，得到虚化照片； 所述根据所述焦点位置信息和所述双目视差图确定所述双目视差图中的每个像素点对应的弥散圆半径图的步骤包括： 根据焦点视差值和所述双目视差图确定弥散圆半径，并根据所述弥散圆半径获得弥散圆半径图。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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