应用材料以色列公司I·皮莱格获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料以色列公司申请的专利使用弱标记检测半导体试样中的缺陷获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118297906B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410416642.3，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权使用弱标记检测半导体试样中的缺陷是由I·皮莱格;R·施莱恩;B·科恩设计研发完成，并于2021-04-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用弱标记检测半导体试样中的缺陷在说明书摘要公布了：公开了使用弱标记检测半导体试样中的缺陷。公开了一种对半导体试样上的感兴趣图案POI进行分类的系统，所述系统包括处理器和存储器电路，所述处理器和存储器电路被配置为：获得所述POI的高分辨率图像，并且根据缺陷相关分类生成可用于对所述POI进行分类的数据，其中所述生成利用已经根据训练样本训练的机器学习模型，所述训练样本包括：高分辨率训练图像，所述高分辨率训练图像是通过扫描试样上的相应训练图案捕获的，所述相应训练图案与所述POI相似；以及标签，所述标签与所述图像相关联，所述标签是所述相应训练图案的低分辨率检视的衍生物。
本发明授权使用弱标记检测半导体试样中的缺陷在权利要求书中公布了：1.一种对半导体试样上的感兴趣图案进行分类的系统，所述系统包括处理器和存储器电路，所述处理器和存储器电路被配置为： 获得提供所述试样上的所述感兴趣图案的高分辨率图像的信息的数据；以及 生成可用于根据缺陷相关分类对所述感兴趣图案进行分类的数据， 其中所述生成利用已经根据至少多个训练样本训练的机器学习模型，每个训练样本通过以下各项获得： 通过利用高分辨率检查工具扫描试样上的相应训练图案捕获高分辨率训练图像，所述相应训练图案与所述感兴趣图案相似，以及 将标签与所述高分辨率训练图像相关联，所述标签是所述相应训练图案的低分辨率检视的衍生物。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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