株式会社斯库林集团石井弘晃获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利衬底处理系统及衬底处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114446821B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111260510.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权衬底处理系统及衬底处理方法是由石井弘晃;村元僚;石井淳一;西田崇之设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本衬底处理系统及衬底处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种衬底处理系统及衬底处理方法。衬底处理系统包含：保护膜形成液供给单元，向衬底的一面供给保护膜形成液；保护膜形成单元，使保护膜形成液固化或硬化，而在衬底的一面形成保护膜；吸附单元，吸附衬底的一面；处理单元，在衬底的一面吸附于所述吸附单元的状态下，对该衬底的另一面执行指定的处理；及去除液供给单元，具有供去除所述保护膜的去除液喷出的去除液喷出口，从所述去除液喷出口朝向衬底的一面供给去除液。
本发明授权衬底处理系统及衬底处理方法在权利要求书中公布了：1.一种衬底处理系统，包含： 保护膜形成液供给单元，向衬底的一面供给保护膜形成液； 保护膜形成单元，使保护膜形成液固化或硬化，而在衬底的一面形成保护膜； 吸附单元，吸附衬底的一面； 处理单元，在衬底的一面吸附于所述吸附单元的状态下，对该衬底的另一面执行指定的处理；及 去除液供给单元，具有供去除所述保护膜的去除液喷出的去除液喷出口，从所述去除液喷出口朝向衬底的一面供给去除液；且 由所述保护膜形成液供给单元供给至衬底的一面的保护膜形成液含有溶媒及溶质， 所述溶质含有高溶解性成分、及在所述去除液中的溶解性比所述高溶解性成分低的低溶解性成分， 通过所述保护膜形成单元而形成的保护膜含有由所述高溶解性成分形成的高溶解性固体、及由所述低溶解性成分形成的低溶解性固体， 从所述去除液供给单元供给的去除液将所述高溶解性固体溶解，由此所述保护膜从衬底的一面剥离。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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