武汉华星光电技术有限公司潘优获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利阵列基板及显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114122027B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111411818.9，技术领域涉及：H10D86/40；该发明授权阵列基板及显示面板是由潘优;薛景峰设计研发完成，并于2021-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及显示面板在说明书摘要公布了：本发明提供了一种阵列基板及显示面板，所述阵列基板包括遮光层、半导体有源层、以及栅极金属线，所述半导体有源层设于所述遮光层之上；其中，所述遮光层被所述半导体有源层覆盖的边界与所述栅极金属线的延伸方向不平行。通过调整遮光层的设计，使遮光层被半导体有源层覆盖的边界与栅极金属线的延伸方向不平行，从而保证在半导体有源层ELA退火时，ELA的扫描方向与所述边界不平行，缓解了所述边界对应的半导体有源层结晶异常的现象。
本发明授权阵列基板及显示面板在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括遮光层、半导体有源层、以及栅极金属线，所述半导体有源层设于所述遮光层之上； 所述阵列基板包括若干薄膜晶体管，所述半导体有源层包括所述薄膜晶体管的有源区，所述有源区的形状为n型，包括相对的第一边和第二边，以及连接所述第一边和所述第二边的第三边；所述遮光层包括第一遮光部和第二遮光部； 其中，所述遮光层被所述半导体有源层覆盖的边界与所述栅极金属线的延伸方向垂直；所述第三边覆盖所述第一遮光部右侧的部分边界，形成相对应的第一坡度边，所述第一坡度边与所述栅极金属线垂直，所述第三边覆盖所述第二遮光部左侧的部分边界，形成相对应的第二坡度边，所述第二坡度边与所述栅极金属线垂直。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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