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苏州沁游网络科技有限公司庄沁获国家专利权

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龙图腾网获悉苏州沁游网络科技有限公司申请的专利一种阴影渲染方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114241117B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111506749.X,技术领域涉及:G06T15/60;该发明授权一种阴影渲染方法、装置、设备及存储介质是由庄沁;李拓;王磊;宋大伟设计研发完成,并于2021-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。

一种阴影渲染方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了:本发明实施例公开了一种阴影渲染方法、装置、设备及存储介质,该方法包括:获取待渲染物体,并获取待渲染物体的不透明部分和透明部分;通过预设光源分别渲染待渲染物体的不透明部分和透明部分,获取不透明阴影贴图和透明阴影贴图;获取待渲染物体各位置点的灯光空间深度,并根据待渲染物体各位置点的灯光空间深度、不透明阴影贴图和透明阴影贴图,确定待渲染物体各位置点的目标阴影亮度。本发明实施例的技术方案,通过根据物体属性对待渲染物体进行划分,进而基于不同属性部分的阴影贴图,为待渲染物体的各位置点配置不同的阴影亮度,可以实现对待渲染物体不同属性部分的区别阴影渲染,可以满足用户日益增长的个性化需求。

本发明授权一种阴影渲染方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种阴影渲染方法,其特征在于,包括: 获取待渲染物体,并获取所述待渲染物体的不透明部分和透明部分; 通过预设光源渲染所述待渲染物体的不透明部分,获取所述待渲染物体各位置点的第一最小灯光空间深度,根据所述待渲染物体各位置点的第一最小灯光空间深度,生成不透明阴影贴图; 通过预设光源渲染所述待渲染物体的透明部分,获取所述待渲染物体各位置点的第二最小灯光空间深度,根据所述待渲染物体各位置点的第二最小灯光空间深度,生成透明阴影贴图; 获取所述待渲染物体各位置点的灯光空间深度,并根据所述待渲染物体各位置点的灯光空间深度和所述不透明阴影贴图,确定所述待渲染物体各位置点的第一阴影亮度;并根据所述待渲染物体各位置点的灯光空间深度和所述透明阴影贴图,确定所述待渲染物体各位置点的第二阴影亮度; 根据公式:L=L0×1.0-1.0-T0×M,计算得到每个位置点的目标阴影亮度L;其中,L0表示位置点的第一阴影亮度,T0表示位置点的第二阴影亮度,M表示预先设置的透明亮度参数,M取值范围为0到1。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人苏州沁游网络科技有限公司,其通讯地址为:215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区启泰路68号友谊时光大厦12F;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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