北京核夕菁科技有限公司陶兴荣获国家专利权
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龙图腾网获悉北京核夕菁科技有限公司申请的专利镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115615333B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211307533.5，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线是由陶兴荣设计研发完成，并于2022-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线在说明书摘要公布了：本申请公开了一种镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线，包括：向待测量材料发射X射线，待测量材料为镀材和基材结合后形成的材料；接收由待测量材料反射的X射线并形成X射线光谱；基于X射线光谱确定已标定的镀材频率点和基材频率点，基材频率点为X射线光谱上与基材对应的波峰两侧的频率点f0和f1，镀材频率点为X射线光谱上与镀材对应的波峰两侧的频率点f2和f3，依据面积的比表征成分的量的比来对X射线光谱中f0，f1和f2，f3积分得到镀层的厚度，由于是通过对反射的X射线进行光谱分析，因此对待测量材料的震动不敏感，可以获得高精度的镀层厚度测量，同时能够针对多镀层的待测量材料进行各个镀层的厚度测量。
本发明授权镀层测量方法、镀层测量装置及镀层生产线在权利要求书中公布了：1.一种镀层测量方法，其特征在于，包括： 向待测量材料发射X射线，所述待测量材料为镀材和基材结合后形成的材料； 接收由所述待测量材料反射的X射线并形成X射线光谱； 基于所述X射线光谱确定已标定的镀材频率点和基材频率点，所述基材频率点为所述X射线光谱上与基材对应的波峰两侧的频率点f0和f1，所述镀材频率点为所述X射线光谱上与镀材对应的波峰两侧的频率点f2和f3； 待测量材料的镀层厚度根据以下公式计算： 其中，S1为待测量材料反射的X射线光谱，m1为待测量材料厚度，n1为待测量材料的镀层厚度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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