礼思(上海)材料科技有限公司胡羽获国家专利权
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龙图腾网获悉礼思(上海)材料科技有限公司申请的专利一种吸附塔获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116443976B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211464906.X，技术领域涉及：C02F1/28；该发明授权一种吸附塔是由胡羽设计研发完成，并于2022-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种吸附塔在说明书摘要公布了：本发明涉及吸附塔技术领域，提供了一种吸附塔，至少包括：主体，具有进水口与出水口，所述主体的塔腔内并列设置有多个吸附柱，每个所述吸附柱的上下两个端面均设置有带有网孔的盖体，所述盖体能够限制所述吸附柱内部的吸附剂外溢且能够允许液体通过。本发明提供的吸附塔，主体的塔腔内并列设置有多个吸附柱，相比于原来的吸附塔，每个吸附柱的体积更小，使得每个吸附柱内的吸附剂可自由分散于液体中，从而确保液体流经吸附柱时可以充分的与吸附剂接触而不会形成径流，从而避免已经吸饱的吸附剂反复受到高锂离子浓度的卤水冲刷、未吸附锂的吸附剂长时间被低锂离子浓度的卤水冲刷，可以大幅降低单个吸脱附循环的时间，提高吸脱附的效率。
本发明授权一种吸附塔在权利要求书中公布了：1.一种吸附塔，其特征在于，至少包括： 主体，具有进水口与出水口，所述主体的塔腔内并列设置有多个吸附柱，每个所述吸附柱的上下两个端面均设置有带有网孔的盖体，所述盖体能够限制所述吸附柱内部的吸附剂外溢且能够允许液体通过； 每个所述吸附柱的端面均呈正六边形的结构，并列相邻的两个所述吸附柱之间无缝拼接设置； 每个所述吸附柱的边长范围为0.5cm-5cm； 每个所述吸附柱的高度范围为5cm-50cm； 每个所述吸附柱内填充的吸附剂均为锂离子筛吸附剂，吸附剂的颗粒直径范围为0.3mm-2mm。
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