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龙图腾网获悉惠科股份有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116125713B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211742772.3，技术领域涉及：G02F1/1362；该发明授权阵列基板及其制备方法、显示装置是由杨依林;康报虹设计研发完成，并于2022-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本阵列基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，制备方法包括提供基板，沉积第一透明金属氧化物导电层；采用第一道光罩对第一透明金属氧化物导电层图案化，形成公共电极与透明导电层；采用等离子还原性气体对透明导电层还原形成底栅；沉积缓冲层和有源层；采用第二道光罩对有源层图案化形成导电沟道；沉积第二透明金属氧化物导电层；采用第三道光罩对第二透明金属氧化物导电层图案化形成第一导电层和第二导电层；采用等离子还原性气体对第一导电层和第二导电层还原得到源极和漏极；沉积第一钝化层与栅极金属层；采用第四道光罩对栅极金属层图案化形成顶栅。通过上述方法，解决了现有技术中无法在兼顾成本的条件下保证器件稳定性的问题。

本发明授权阵列基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板的制备方法，用于制备应用于液晶显示装置的阵列基板，其特征在于，包括： 提供基板，在所述基板上沉积第一透明金属氧化物导电层；其中，所述第一透明金属氧化物导电层为单层结构； 采用第一道光罩对所述第一透明金属氧化物导电层图案化处理，形成相互间隔的公共电极与透明导电层；所述公共电极与所述透明导电层同层设置且均为单层结构； 采用等离子还原性气体对所述透明导电层进行还原，形成底栅；其中，所述底栅为单层结构，且所述底栅的材料为金属； 依次沉积缓冲层和有源层；采用第二道光罩对所述有源层图案化处理，形成导电沟道； 沉积第二透明金属氧化物导电层；采用第三道光罩对所述第二透明金属氧化物导电层图案化处理，形成像素电极、第一导电层和第二导电层； 采用等离子还原性气体对所述第一导电层和所述第二导电层进行还原，形成源极和漏极； 依次沉积第一钝化层与栅极金属层；采用第四道光罩对所述栅极金属层图案化处理，形成顶栅； 沉积第二钝化层。

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