汕头超声显示器技术有限公司;汕头超声显示器(二厂)有限公司;汕头超声显示器有限公司沈奕获国家专利权
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龙图腾网获悉汕头超声显示器技术有限公司;汕头超声显示器(二厂)有限公司;汕头超声显示器有限公司申请的专利一种包含低阻线路的透明电路层制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116249274B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310050385.1，技术领域涉及：H05K3/24；该发明授权一种包含低阻线路的透明电路层制造方法是由沈奕;高嘉桐;欧建平;余荣;吕岳敏;张汉焱设计研发完成，并于2023-02-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种包含低阻线路的透明电路层制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种包含低阻线路的透明电路层制造方法，包括如下步骤：1在透明基板的表面上形成低阻铜膜，再对低阻铜膜进行图形化而形成铜电路；3在透明基板表面上沉积覆盖低阻铜膜的透明导电膜；其特征在于：在所述步骤（1）之后还进行步骤（2），通过对所述铜电路的表面进行轻度氧化，在铜电路表面形成薄氧化层；所述步骤3中，所形成的透明导电膜为至少底层为缺氧态的透明导电膜；在所述步骤3之后还进行步骤（4），使透明导电膜底层与薄氧化层发生反应，使透明导电膜底层与薄氧化层紧密结合在一起。本发明能够提高透明导电膜在铜线路之上的附着力，保证铜电路与透明导电膜之间导电的可靠性。
本发明授权一种包含低阻线路的透明电路层制造方法在权利要求书中公布了：1.一种包含低阻线路的透明电路层制造方法，包括如下步骤：1在透明基板的表面上形成低阻铜膜，再对低阻铜膜进行图形化而形成铜电路；3在透明基板表面上沉积覆盖低阻铜膜的透明导电膜；其特征在于：在所述步骤（1）之后还进行步骤（2），通过对所述铜电路的表面进行轻度氧化，在铜电路表面形成薄氧化层；所述步骤3中，所形成的透明导电膜为至少底层为缺氧态的透明导电膜；在所述步骤3之后还进行步骤（4），使透明导电膜底层与薄氧化层发生氧化还原反应，透明导电膜底层的金属原子为薄氧化层所氧化，薄氧化层被还原为金属铜，薄氧化层的氧原子迁移到透明导电膜底层，以形成透明导电膜底层与铜电路的互嵌，形成纳米级的互溶层，使透明导电膜底层与薄氧化层紧密结合在一起。
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