华中科技大学许剑锋获国家专利权
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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116121878B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310163273.7，技术领域涉及：C30B33/00；该发明授权一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法是由许剑锋;刘念;雷凌;张建国;肖峻峰设计研发完成，并于2023-02-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法在说明书摘要公布了：本发明属于超精密加工领域，并公开了一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法，方法的具体步骤包括：在清洁后的单晶金刚石表面离子镀特定厚度的金属薄膜；利用纳秒脉冲激光对金属薄膜进行烧蚀，当金属薄膜被完全烧蚀后，继续烧蚀，直至所述单晶金刚石上生成石墨层。本发明能够通过在金刚石表面镀金属薄膜，使用合适能量的纳秒脉冲激光烧蚀单晶金刚石，以在单晶金刚石表面形成均匀的石墨层，从而实现对单晶金刚石的均匀化激光烧蚀。
本发明授权一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法在权利要求书中公布了：1.一种均匀化烧蚀单晶金刚石的方法，其特征在于，包括步骤： S1、在清洁后的单晶金刚石表面离子镀厚度为20nm~200nm的金属薄膜； S2、利用预设激光功率为9W~20W的纳秒脉冲激光对所述金属薄膜进行单次扫描脉冲烧蚀，当所述金属薄膜被完全烧蚀后，继续烧蚀，直至所述单晶金刚石上生成石墨层；其中，所述纳秒脉冲激光的加工参数为：重复频率设置为80kHz~120kHz，激光扫描速度设置为500mms~700mms，且光斑大小设置为10μm~15μm。
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