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龙图腾网获悉电子科技大学申请的专利一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116242241B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310191640.4，技术领域涉及：G01B7/06；该发明授权一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法是由周权;冷贵鋆;时涵;钟卓文;白利兵;张杰设计研发完成，并于2023-03-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法，首先构建一个低频磁感应测厚装置，利用低频的动态磁场作为激励源。在此基础上，基于标准基底通过数据降维、多周期平均建立标准基底建立厚度曲线，再基于没有涂镀覆层的待测基底建立与标准基体的校准关系，最后获得的特征量经过校准关系得到校准后的特征量，并通入厚度曲线得到待测基底涂镀覆层厚度。本发明利用低频的动态磁场作为激励源，降低磁感应测厚与测量基底的相关性，消除基底磁滞对涂镀覆层厚度测量结果的影响，同时，对采集数据为多个周期磁滞回线进行降维、平均，相对于现有的单点磁芯信号，更为精准地反应了涂镀覆层的厚度，因此，本发明提升磁感应测厚法的测量精度。

本发明授权一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法在权利要求书中公布了：1.一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法，该检测方法适用于铁磁性基底上非磁性涂镀覆层的厚度测量，其特征在于，包括以下步骤： 1、建立一低频磁感应测厚装置 所述的低频磁感应测厚装置包括软铁磁材料磁芯、激励线圈以及磁场测量传感器； 激励磁场由均匀密集缠绕在圆柱形的软铁磁材料磁芯上的激励线圈发出，该软铁磁材料磁芯的半径为r、绕制的激励线圈的线径为通过激励线圈的电流为随时间变化的正弦电流It，在激励线圈顶部紧贴着磁场测量传感器，用以测量磁场大小，软铁磁材料磁芯、激励线圈以及磁场传感器组成测量探头，磁场测量传感器位于测量探头顶部，测量探头顶部朝下； 2、基于标准基底建立厚度曲线 2.1、将标准基底置于测量探头顶部下方，并与标准基底紧密贴合，并模拟第0次测量时涂镀覆层厚度h0＝0； 2.2、对于第i次测量，将连续的n个周期的低频交流激励信号通入激励线圈中，同时，对磁场测量传感器感应的磁场强度进行采集，得到n个周期的磁信号； 2.3、将第一个周期以及最后一个周期的磁信号去掉，得到n-2个周期的磁信号； 2.4、n-2个周期的磁信号以一个周期为单位进行数据降维，获得n-2个降维后的特征量ki1，ki2，ki3，......，kin-2； 2.5、n-2个降维后的特征量ki1，ki2，ki3，......，kin-2进行平均，获得平均特征量ki； 2.6、记录下此时的平均特征量ki与模拟涂镀覆层厚度hi； 2.7、i＝i+1，进行下一次测量，沿垂直方向移动测量探头，增加测量探头与标准基底之间的距离，以此改变模拟涂镀覆层厚度hi，然后返回步骤2.2，这样重复m次，获得两个有m个元素相互对应的数据集{[k0，k1，k2，......km]，[h0，h1，h2，......hm]}； 2.8、将数据集{[k0，k1，k2，......km]，[h0，h1，h2，......hm]}以厚度大小hi作为因变量h、以特征量大小ki作为自变量k，通过最小二乘法，进行两者之间的数据拟合，得到拟合结果即厚度曲线h＝fk； 3、构建待测基底到标准基底的校准关系 3.1、将没有涂镀覆层的待测基底置于测量探头顶部下方，并与待测基底紧密贴合，并模拟第0次测量时涂镀覆层厚度hr0＝0，然后按照步骤2.2-2.5的方式，获得平均特征量kr0； 3.2、移动测量探头至无穷远即探头不受任何磁感应影响的环境，模拟无穷大厚度涂镀覆层厚度hr∞，然后按照步骤2.2-2.5的方式，获得对应的平均特征量kr∞； 3.3、从厚度曲线h＝fk中计算获得涂镀覆层厚度h为0的特征量k0与无穷远处的特征量k∞； 3.4、将k0，kr0，k∞，kr∞带入一元一次模型，其中，kr0、kr∞作为待校准的特征量kx，k0、k∞作为校准后的特征量，得到校准关系式ks＝gkx以供测量时使用； 4、测量待测基底涂镀覆层厚度 4.1、将有涂镀覆层的待测基底置于测量探头顶部下方，并与待测基底涂镀覆层紧密贴合，然后按照步骤2.2-2.5的方式，获得平均特征量，并将该平均特征量作为待校准的特征量kx带入校准关系式ks＝gkx，获得校准后的特征量ks； 4.2、将获得的校准后的特征量ks作为特征量k带入厚度曲线h＝fk，得到待测基底涂镀覆层厚度hx的大小，即hx＝fks。

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