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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学(深圳)申请的专利基于脉冲磁控溅射的氮化铬多层纳米涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116426887B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310270697.3，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权基于脉冲磁控溅射的氮化铬多层纳米涂层及其制备方法是由刘向力;柏贺达设计研发完成，并于2023-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于脉冲磁控溅射的氮化铬多层纳米涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于脉冲磁控溅射的氮化铬多层纳米涂层及其制备方法，所述氮化铬多层纳米涂层从下到上依次包括铬层、多层结构涂层和氮化铬层，所述多层结构涂层为Cr2N相层、CrN相层多层循环交替层，该涂层采用HiPIMS技术，通过改变占空比和脉冲结构等放电模式的调控手段，调控等离子体离化率和沉积速率以及成膜的化学计量比的方法得到。本发明技术方案得到的涂层具有高硬度、高韧性、良好的耐腐蚀性以及耐氧化性；将该多层涂层应用于刀具上，有助于提高刀具的硬度、耐腐蚀性和抗高温氧化性能，且具有具备较好的耐冲击性能，可大幅度提高基体的耐磨损性能。

本发明授权基于脉冲磁控溅射的氮化铬多层纳米涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种基于脉冲磁控溅射的氮化铬多层纳米涂层的制备方法，其特征在于：所述氮化铬多层纳米涂层从下到上依次包括铬层、多层结构涂层和表面阻隔层，所述多层结构涂层为Cr2N相层、CrN相层多层循环交替层； 所述氮化铬多层纳米涂层采用如下步骤制备得到： 步骤S1，将基体置于氩气环境中，开启Cr靶，采用HiPIMS技术对基体的表面进行活化处理； 步骤S2，调整氩气流量，采用HiPIMS技术在基体的表面沉积铬层； 步骤S3，通入氮气，并调整气体氩氮比为2～3，气压为0.05～0.6Pa，采用HiPIMS技术在铬层的表面沉积Cr2N相层，HiPIMS占空比为5.5-6.5%，频率为150～400Hz；然后保持气压以及氩氮比不变，调整HiPIMS占空比为1~2%，频率为600～1000Hz，沉积CrN相层；按照该步骤重复交替沉积Cr2N相层和CrN相层，得到多层结构涂层； 步骤S4，在多层结构涂层的表面沉积表面阻隔层； 所述Cr2N相层含有58％～72％质量百分比的Cr、28％～42％质量百分比的N，所述CrN相层含有50％～58％质量百分比的Cr、42％～48％质量百分比的N，每层Cr2N相层和CrN相层的厚度不大于0.8μm。

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