日东电工株式会社角田丰获国家专利权
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龙图腾网获悉日东电工株式会社申请的专利带防污层的光学薄膜及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118027485B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311491078.3，技术领域涉及：C08J7/046；该发明授权带防污层的光学薄膜及其制造方法是由角田丰;宫本幸大;梨木智刚设计研发完成，并于2023-11-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本带防污层的光学薄膜及其制造方法在说明书摘要公布了：适于使防污层实现良好透明外观性的带防污层的光学薄膜及其制造方法。该制法包括在透明基材薄膜11一面侧形成防污层15的工序；将剥离薄膜16的粘合面16a贴合于防污层15的工序；从防污层15将剥离薄膜16剥离的工序；将保护薄膜17的粘合面17a贴合于防污层15的工序。剥离薄膜16对防污层15的粘合力为0.008N50mm以上。薄膜Z依次具备透明基材薄膜11、防污层15和保护薄膜17。保护薄膜17利用粘合面17a贴接于防污层15。去除保护薄膜后的防污层的厚度相对于具备保护薄膜状态下的防污层的厚度的比率为0.9以上1.0以下。
本发明授权带防污层的光学薄膜及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种带防污层的光学薄膜的制造方法，其是通过卷对卷方式制造带防污层的光学薄膜的方法， 所述制造方法包括： 防污层形成工序，在透明基材薄膜的厚度方向一面侧形成防污层； 第1贴合工序，在所述防污层贴合具有粘合面的剥离薄膜的所述粘合面； 剥离工序，将所述剥离薄膜从所述防污层剥离；和 第2贴合工序，在所述防污层贴合具有粘合面的保护薄膜的所述粘合面， 所述剥离薄膜对所述防污层的粘合力为0.015N50mm以上且0.1N50mm以下， 所述保护薄膜能从所述防污层剥离去除。
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