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龙图腾网获悉池州首开新材料有限公司申请的专利一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117443832B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311601508.2，技术领域涉及：B08B3/08；该发明授权一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法是由霍育强;刘睿设计研发完成，并于2023-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法在说明书摘要公布了：本发明属于硅片清洗技术领域，具体的说是一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法，包括工作台，所述工作台的顶面设置有支撑架；所述支撑架的顶面滑动连接有滑块；所述滑块的侧面啮合贯通设置有丝杠；所述滑块的顶面设置有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆输出端底端贯通到滑块的下方，且底端设置有吸附硅片的吸盘组件；本发明所述的一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法，通过在放置板上设置支撑辊，通过吸盘组件将硅片转移到放置板顶端，通过支撑辊撑起，之后浸泡在清洗溶剂内，同时推板间歇性的推动硅片移动，硅片与支撑辊的接触位置不断改变，使得硅片整体充分与清洗溶剂接触，有利于减少硅片的浸泡完成的速度，避免对浸泡效率造成影响。

本发明授权一种硅片清洗干燥设备及清洗干燥方法在权利要求书中公布了：1.一种硅片清洗干燥设备，其特征在于：包括工作台1，所述工作台1的顶面设置有支撑架11；所述支撑架11的顶面滑动连接有滑块13；所述滑块13的侧面啮合贯通设置有丝杠14；所述滑块13的顶面设置有第一伸缩杆12，所述第一伸缩杆12输出端底端贯通到滑块13的下方，且底端设置有吸附硅片的吸盘组件；所述丝杠14的端部设置有伺服电机的输出端；伺服电机安装在支撑架11的表面； 所述工作台1的顶面且位于吸盘组件的下方设置有承接板2；所述承接板2的一端设置有第一传送组件21；所述承接板2的另一端设置有第二传送组件22，所述承接板2的顶面贯通插接有浸泡箱23，所述承接板2的顶面中心处贯通插接有清洗箱25；所述承接板2的顶面且基于中心处与浸泡箱23对称的一侧设置有烘干箱26； 所述浸泡箱23的内部设置有放置板3，所述浸泡箱23的下方设置有第二伸缩杆24，所述第二伸缩杆24输出端贯通到浸泡箱23内且与所述放置板3的底面连接；所述放置板3的顶面转动连接有多个支撑辊31，所述支撑辊31的环形辊面转动最高处位置高于放置板3的顶面；所述放置板3的侧面开设有放置槽32；放置槽32的内部安装有第三伸缩杆33，所述放置板3的顶面设置有推板35，所述推板35的侧面与第三伸缩杆33输出端端部之间设置有第一连接架34；所述推板35设置有一对，且基于放置的硅片对称。

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