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华中科技大学杨吉祥获国家专利权

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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利考虑光学元件面形精度及加工效率的机器人抛光力速规划方法及系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119589521B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411894022.7,技术领域涉及:B24B13/00;该发明授权考虑光学元件面形精度及加工效率的机器人抛光力速规划方法及系统是由杨吉祥;李文昊;丁汉设计研发完成,并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

考虑光学元件面形精度及加工效率的机器人抛光力速规划方法及系统在说明书摘要公布了:本发明属于光学元件的机器人自动化力控抛光技术领域,并具体公开了一种考虑光学元件面形精度及加工效率的机器人抛光力速规划方法及系统。其包括:基于Preston理论,建立小磨头抛光装置的材料去除模型;获取光学元件检测点的面形数据,并离线规划出光学元件的抛光路径;拟合离散刀具点,获取参数化位置曲线,均匀取点以获取面形优化驻留点,并结合材料去除模型建立单位材料去除矩阵;构建第一步与第二步优化模型,获取优化的接触力与进给速度。本发明可实现光学元件加工时接触力与进给速度的优化,以高效率获得高质量光学元件。

本发明授权考虑光学元件面形精度及加工效率的机器人抛光力速规划方法及系统在权利要求书中公布了:1.一种考虑光学元件面形精度及加工效率的机器人抛光力速规划方法,其特征在于,包括以下步骤: S1、基于Preston理论,建立小磨头抛光装置的材料去除模型; S2、获取光学元件检测点的面形数据,并离线规划出光学元件的抛光路径,获取离散刀具位置点; S3、拟合离散刀具点,获取参数化位置曲线,均匀取点以获取面形优化驻留点,并结合材料去除模型建立单位材料去除矩阵; S4、构建第一步优化模型;具体以光学元件加工后面形精度为优化目标,以抛光接触力、驻留点的驻留时间为优化变量,考虑接触力与驻留时间的可实现性,进而通过最小二乘优化算法求解得到耦合的最优力速关系; S5、构建第二步优化模型;以光学元件的加工效率作为优化目标,以机器人的末端进给速度作为优化变量,考虑机器人的运动限制与接触力的可实现性,以内点法作为优化方法,获取光学元件加工时的进给速度,并依据力速耦合关系反算光学元件抛光接触力; 所述步骤S1中,基于Preston理论,可以获取单位时间内的光学元件的抛光去除量为: 其中,hx,y为磨头抛光时在点x,y处的材料去除量的大小;K为可视为常数的Preston系数;Pax,y,t为该点在时刻t的抛光压力,对于行星小磨头装置,可将其视为常数;Vx,y,t为该点上t时刻磨头与工件的相对速度;T为抛光时长; 通过对行星小磨头的速度分布进行分析计算,可以得到抛光装置抛光时的材料去除模型为: 其中,为计算点距离抛光装置中心的距离,F为抛光接触力,Rp为磨头的半径,np为磨头进行公转与自转的角速度比值,ω1为行星磨头的公转角速度,e为磨头的偏心距;α为计算点在磨头运动时,与磨头中心的接触角度;α0为α的极限,其与计算点在磨头的接触区域内位置有关,可以通过下式计算: 所述步骤S3主要包括: 首先,针对获取的离散刀具点位置Po进行样条拟合,构建参数化样条路径; 针对获得的参数化样条路径进行均匀化参数选取,获取面形优化的实际驻留点Pr={Pr0,Pr1,...,Prb}; 根据实际驻留点、光学元件的面形数据点位置以及材料去除模型构建单位材料去除矩阵为: 其中,h1rij为磨头位于第j个驻留点时以单位接触力抛光单位时间对第i个面形数据点处的去除量;a为面形数据点的总数,b为抛光驻留点的总数。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人华中科技大学,其通讯地址为:430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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