粤芯半导体技术股份有限公司姜晓晴获国家专利权
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龙图腾网获悉粤芯半导体技术股份有限公司申请的专利光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119647405B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510177635.7，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法是由姜晓晴;曾辉设计研发完成，并于2025-02-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法，光刻胶模型优化方法包括光刻胶阈值模型在完成迭代优化后，将迭代优化后得到的第一模型参数数据中的成像光强曲率的系数降低以得到第二模型参数数据，再次对第二模型参数数据进行迭代优化。与传统的仅进行一次迭代优化而建立的光刻胶阈值模型相比，通过本发明的方法得到的修正的光刻胶阈值模型能够在保持模型精度的前提下准确预测晶圆上回字形类型的特殊图形的漏光现象，避免出现模型过度修正的情况。同时在验证优化时仅需要回字形图形的数据，数据获取难度低。经验证，本发明的光刻胶阈值模型能够更精确地预测回字形图形代表的拐角多且密集程度较高的这类图形。
本发明授权光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶模型优化方法，其特征在于，应用所述方法得到的光刻胶阈值模型能够避免产生模型仿真不正确出现漏光的情况，其能够被用于图形仿真模拟场景中，以使得在对PSM光罩进行计算与仿真模拟时，不会产生实际晶圆上不存在漏光现象但模型模拟时出现漏光现象的问题，所述方法包括： 获取已完成迭代优化的光刻胶阈值模型，将该已完成迭代优化的光刻胶阈值模型相应的参数数据作为第一模型参数数据； 将第一模型参数数据中的成像光强曲率系数降低，得到第二模型参数数据； 对第二模型参数数据进行迭代优化，得到第三模型参数数据，根据第三模型参数数据生成修正后的光刻胶阈值模型。
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