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龙图腾网获悉广德东威科技有限公司申请的专利一种基于铁离子镀铜体系的溶铜槽获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120082947B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510574825.2，技术领域涉及：C25D17/00；该发明授权一种基于铁离子镀铜体系的溶铜槽是由江泽军;刘文超;刘永红设计研发完成，并于2025-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于铁离子镀铜体系的溶铜槽在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于铁离子镀铜体系的溶铜槽，属于电解镀覆用电解槽领域，包括外筒和底座，还包括内筒和外壳；内筒中央贯穿设置有钛棒，钛棒顶端连接阳极，内筒设置在外筒内，内筒和外筒之间装填有铜粒，铜粒与外筒内壁之间设置有钛篮，钛篮沿外筒筒壁方向的顶部固定设置有铜环，铜环上方连接阴极；本发明通过减小阳极面积，增大阴极面积，减小了阴极的平均电流密度，使得与铜粒表面接触的三价铁离子发生还原反应，降低三价铁离子浓度，实现二价铁离子的再生，同时降低了金属铜和三价铁的反应，从而控制了铜的溶解速度。这使得电镀液中铜离子浓度处于镀铜液规定范围时，三价铁离子浓度也处于较低范围，提高了电镀效率，控制了铜的额外消耗。

本发明授权一种基于铁离子镀铜体系的溶铜槽在权利要求书中公布了：1.一种基于铁离子镀铜体系的溶铜槽，包括外筒（3）和底座（6），其特征在于，还包括内筒（4）和外壳（5）； 所述内筒（4）中央贯穿设置有钛棒（101），钛棒（101）顶端连接阳极（1），内筒（4）设置在外筒（3）内，内筒（4）和外筒（3）之间装填有铜粒（203），铜粒（203）与外筒（3）内壁之间设置有钛篮（201），钛篮（201）沿外筒（3）筒壁方向的顶部固定设置有铜环（202），铜环（202）上方连接阴极（2）； 外筒（3）外侧设置有外壳（5），外壳（5）上端设置有溢流盒（504），溢流口（503）开口连通至溢流盒（504），溢流盒（504）底部设置出口（505）； 所述阴极（2）和阳极（1）外接的再生整流器电压为0-6V，阳极（1）电流密度为5-10ASD，电解再生溶铜槽中电镀液的Fe3+浓度1gL，CuSO4·5H2O的浓度为65-75gL； 所述阴极（2）和阳极（1）面积比超过1000:1； 工作步骤： S1、通过漏斗将铜粒（203）加入内筒（4）和外筒（3）之间，从入口通入电镀液，直至溢流盒504中溢流出电镀液； S2、待溶铜槽内电镀液中铜离子浓度满足要求后，从入口继续通入电镀液，检测溢流盒504中的铜离子浓度，调节入口通入电镀液的速度，使溢流盒（504）中铜离子浓度处于规定范围，将溢流盒504内径出口505流出的电镀液输送至镀铜槽； S3、检测镀铜槽内三价铁离子浓度，当镀铜槽内三价铁离子浓度超出1gL时，将电解再生溶铜槽的电极通电，调节再生整流器电压和电流密度，降低溶铜槽内电镀液的三价铁离子浓度，直至镀铜槽内三价铁离子浓度小于1gL。

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