ASML荷兰有限公司J·F·F·克林哈梅获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利光刻过程的子场控制和相关联设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114667488B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080063335.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻过程的子场控制和相关联设备是由J·F·F·克林哈梅;V·阿尔蒂尼;H·E·卡图;T·W·M·提森设计研发完成，并于2020-08-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻过程的子场控制和相关联设备在说明书摘要公布了：披露了一种用于确定针对使用光刻设备在曝光场上曝光图案的光刻过程的控制的校正的方法。所述方法包括：获得描述跨越所述曝光场的至少一部分上的性能参数的空间变化的空间分布；和共同确定针对所述空间分布的控制配置文件以在最小化所述性能参数中的误差的同时确保最小对比度品质。所述共同确定的控制配置文件至少包括用于控制所述光刻设备的平台布置的平台控制配置文件和用于控制所述光刻设备的透镜操纵器的透镜操纵器控制配置文件，所述光刻设备的所述透镜操纵器能够操作以在垂直于所述衬底平面的方向上对至少放大率执行校正。
本发明授权光刻过程的子场控制和相关联设备在权利要求书中公布了：1.一种确定用于光刻设备内的、在将图案的图像投影至衬底时使用的透镜的操纵器的动态控制配置文件的方法，所述方法包括： 获得与被投影图像的定位相关联的位置参数的跨越所述衬底的至少一部分上的空间变化；和 基于图像对比度劣化的稳定或减轻来确定用于所述操纵器的所述动态控制配置文件，所述图像对比度劣化由于与被配置成对所述位置参数的所述空间变化进行校正的平台控制配置文件相关联的动态平台位置误差的预期影响而产生，其中用于所述操纵器的所述动态控制配置文件被配置成在投影期间动态地调整被投影图像的几何变形。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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