肖特股份有限公司O·苏赫获国家专利权
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龙图腾网获悉肖特股份有限公司申请的专利具有标记元件的基底、包括其的容器以及其生产方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112775556B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011140438.1,技术领域涉及:B23K26/362;该发明授权具有标记元件的基底、包括其的容器以及其生产方法是由O·苏赫;S·卡沃斯;C·布鲁宁设计研发完成,并于2020-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有标记元件的基底、包括其的容器以及其生产方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种具有标记元件的基底、包括其的容器以及其生产方法。标记元件在基底的至少一个第一表面区域和至少一个第二表面区域上延伸;在第一表面区域上基底具有至少一个第一粗糙度值;在第二表面区域上基底具有至少一个第二粗糙度值;在沿至少部分地穿过第一表面区域和第二表面区域的至少一条切割线的基底的至少一个高度轮廓中,沿与第一表面区域相对应的高度轮廓的第一部分的基底的高度大于沿与第二表面区域相对应的高度轮廓的第二部分的基底的高度;在高度轮廓中,第二部分的最大高度点或至少一个平均高度与第一部分的最小高度点或至少一个平均高度之间的高度差的绝对值定义为深度值;深度值与第二粗糙度值的比例在2到35之间。
本发明授权具有标记元件的基底、包括其的容器以及其生产方法在权利要求书中公布了:1.一种具有标记元件的基底, 其中,所述标记元件在所述基底的至少一个第一表面区域和所述基底的至少一个第二表面区域上延伸; 其中,在所述第一表面区域上,对于所述第一表面区域的至少一个表面粗糙度,所述基底具有至少一个第一粗糙度值;在所述第二表面区域上,对于所述第二表面区域的表面粗糙度,所述基底具有至少一个第二粗糙度值; 其中,在沿至少部分地穿过所述第一表面区域和第二表面区域的至少一条切割线的基底的至少一个高度轮廓中,沿与所述第一表面区域相对应的所述高度轮廓的第一部分的基底的高度大于沿与所述第二表面区域相对应的所述高度轮廓的第二部分的基底的高度; 其中,在所述高度轮廓中,第二部分的最大高度点或至少一个平均高度与第一部分的最小高度点或至少一个平均高度之间的高度差的绝对值定义为深度值; 其中,所述深度值与第二粗糙度值的比例在2到35之间; 其中,所述标记元件包括至少一个雕刻在所述基底中的空腔; 其中,所述第二表面区域为所述空腔的表面的至少一部分。
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