艾克斯特朗欧洲公司W.J.T.克鲁肯获国家专利权
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龙图腾网获悉艾克斯特朗欧洲公司申请的专利用于CVD反应器的基座获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115298351B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180021880.9，技术领域涉及：C23C16/46；该发明授权用于CVD反应器的基座是由W.J.T.克鲁肯设计研发完成，并于2021-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于CVD反应器的基座在说明书摘要公布了：本发明涉及一种CVD反应器，其具有能够围绕旋转轴线A由旋转驱动装置24旋转驱动的基座2，基座具有朝向处理室4的第一宽侧面2′，在第一宽侧面上围绕旋转轴线A布置有多个用于容纳待处理的基板21的放置位22，基座还具有背离第一宽侧面指向的第二宽侧面2"，第二宽侧面与用于将基座2加热到处理温度的加热装置8相对置，基座还具有通入加热装置8和基座2的第二宽侧面2"之间的间隔空间中的多个气体排出口10、15、18，用于将调温气体输入到间隔空间中。为了能够局部地影响加热装置8和基座2之间的热传输，在此规定，这些气体排出口10、15、18布置在基座2的第二宽侧面2"中并且每个放置位22在空间上配属有多个气体排出口10、15、18中的至少一个。
本发明授权用于CVD反应器的基座在权利要求书中公布了：1.一种用于对基板21进行热处理的设备，所述设备具有能够围绕旋转轴线A由旋转驱动装置24旋转驱动的基座2，所述基座具有 朝向处理室4的第一宽侧面2'，在所述第一宽侧面上围绕所述旋转轴线A布置有多个用于容纳待处理的基板21的放置位22， 背离所述第一宽侧面指向的第二宽侧面2"，所述第二宽侧面与用于将基座2加热到处理温度的加热装置8相对置，和 多个气体排出口，所述气体排出口通入所述加热装置8与所述基座2的第二宽侧面2"之间的间隔空间，所述气体排出口用于将调温气体输入到所述间隔空间中，其中，这些气体排出口在空间上分别与放置位22相配属并且能够通过在所述基座2内部延伸的输入管路供应调温气体， 其特征在于，所述气体排出口布置在所述第二宽侧面2"中并且通入在所述基座2和相对于壳体1位置固定的密封板9之间的间隙23中。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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