株式会社ORC制作所奥山隆志获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社ORC制作所申请的专利曝光装置和曝光方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114967354B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110295488.5,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权曝光装置和曝光方法是由奥山隆志设计研发完成,并于2021-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光装置和曝光方法在说明书摘要公布了:提供曝光装置和曝光方法,即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置10具有遮光部40,该遮光部40设置有沿着主扫描方向X排列的第1缝隙SU1和第2缝隙SU2,该曝光装置10使配置有正方形状的子图案PT1~PT5的X型的离散的位置检测图案PT的光相对于遮光部40的第1、第2缝隙SU1、SU2沿着主扫描方向X进行扫描。
本发明授权曝光装置和曝光方法在权利要求书中公布了:1.一种曝光装置,其特征在于, 该曝光装置具有: 遮光部,其在主扫描方向上排列有相对于副扫描方向具有正负相反的倾斜角度的第1缝隙和第2缝隙; 曝光部,其能够对所述遮光部投影位置检测图案的光; 受光部,其接收透过所述第1缝隙和所述第2缝隙的光;以及 检测部,其根据在使位置检测图案的光沿主扫描方向进行扫描时从所述受光部输出的信号,检测曝光位置, 所述曝光部将位置检测图案的光投影到所述遮光部,该位置检测图案由与所述第1缝隙平行的连续或离散的第1图案要素和与所述第2缝隙平行的连续或离散的第2图案要素构成,并且所述第1图案要素与所述第2图案要素的一部分是共有的。
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