南亚科技股份有限公司苏品源获国家专利权
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龙图腾网获悉南亚科技股份有限公司申请的专利图案化结构及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115376895B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110766182.3，技术领域涉及：H01L21/033；该发明授权图案化结构及其制造方法是由苏品源;赖振益设计研发完成，并于2021-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本图案化结构及其制造方法在说明书摘要公布了：一种制造图案化结构的方法包括以下流程。于第一方向上依序堆叠形成硬遮罩层与光阻层。光阻层形成于硬遮罩层上。于垂直第一方向的第二方向上对硬遮罩层与光阻层执行等向性蚀刻工艺，使得硬遮罩层在第二方向上的宽度小于光阻层在第二方向上的宽度。如此，减少破坏光阻层厚度与形状并缩短硬遮罩层的尺寸，有利于后续形成的结构或元件的关键尺寸精确缩小。
本发明授权图案化结构及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种制造图案化结构的方法，其特征在于，包括： 于第一方向上在底层上依序堆叠形成硬遮罩层与光阻层，其中该光阻层形成于该硬遮罩层上； 于垂直该第一方向的第二方向上对该硬遮罩层与该光阻层执行等向性蚀刻工艺，使得该硬遮罩层在第二方向上的第一宽度小于该光阻层在该第二方向上的第二宽度，其中对该硬遮罩层与该光阻层执行的该等向性蚀刻工艺是中性且非离子的，该硬遮罩层在该第二方向上具有均等的该第一宽度； 在对该硬遮罩层与该光阻层执行等向性蚀刻工艺后，通过该光阻层图案化该硬遮罩层；以及 通过被图案化的该硬遮罩层的图案来图案化该底层。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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