东京毅力科创株式会社阪根亮太获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利载置台和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114068279B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110836565.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权载置台和等离子体处理装置是由阪根亮太设计研发完成，并于2021-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本载置台和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供载置台和等离子体处理装置。减少沉积物在槽的沉积。载置台具有静电卡盘、基台以及遮蔽物。静电卡盘吸附基板。基台被呈环状延伸的槽分割成支承静电卡盘的第1区域和支承配置于基板的周围的边缘环的第2区域。遮蔽物设于槽，该遮蔽物将第1区域与第2区域在热量上分离。
本发明授权载置台和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种载置台，其用于载置基板，其中， 该载置台具有： 静电卡盘，其用于吸附所述基板； 基台，其被呈环状延伸的槽分割成支承所述静电卡盘的第1区域和支承配置于所述基板的周围的边缘环的第2区域；以及 遮蔽物，其设于所述槽，该遮蔽物将所述第1区域与所述第2区域在热量上分离；以及 圆环状的基座，其设置在所述第2区域中并支撑所述边缘环， 其中，所述遮蔽物是形成为环状的弹性构件，保护所述静电卡盘以及所述基台的面向所述槽的侧面， 所述弹性构件设有朝向环状的内侧突出的第1突部，该弹性构件利用该第1突部与所述静电卡盘接触而不与所述基台接触， 所述弹性构件设有朝向环状的内侧突出的第2突部，该弹性构件利用该第2突部与所述基台接触而不与所述静电卡盘接触， 所述第1突部和所述第2突部在垂直方向上彼此分离， 其中，所述槽形成在所述静电卡盘和所述边缘环之间以及所述基台和所述圆环状的基座之间。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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