深圳迪道微电子科技有限公司陈旺获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳迪道微电子科技有限公司申请的专利高敏感度正性光刻胶组合物及其合成方法和固化膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114545739B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210052776.2，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权高敏感度正性光刻胶组合物及其合成方法和固化膜是由陈旺;康威;康凯设计研发完成，并于2022-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本高敏感度正性光刻胶组合物及其合成方法和固化膜在说明书摘要公布了：本发明涉及一种高敏感度正性光刻胶组合物及其合成方法和固化膜，包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，溶质的重量比例为15‑60%，溶质由含有侧位羟基和末端羧基的丙烯酸酯共聚物、硅氧烷共聚物、重氮萘醌类化合物和表面活性剂组成，溶质中含有侧位羟基和末端羧基的丙烯酸酯共聚物的重量比例为60‑80%，重氮萘醌类化合物与含有侧位羟基和末端羧基的丙烯酸酯共聚物的重量比为（2‑20）：100。本发明以丙烯酸酯共聚物和硅氧烷共聚物共同作为粘合剂，丙烯酸酯共聚物含有侧位羟基和末端羧基可提高聚合物在显影液中的溶解度，光刻胶在曝光过程中形成图案更为容易，进一步增强了光刻胶组合物的敏感度。
本发明授权高敏感度正性光刻胶组合物及其合成方法和固化膜在权利要求书中公布了：1.一种正性光刻胶组合物，其特征在于：包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，所述溶质的重量比例为15-60%，所述溶质由含有侧位羟基和末端羧基的丙烯酸酯共聚物、硅氧烷共聚物、重氮萘醌类化合物和表面活性剂组成，溶质中含有侧位羟基和末端羧基的丙烯酸酯共聚物的重量比例为60-80%，重氮萘醌类化合物与含有侧位羟基和末端羧基的丙烯酸酯共聚物的重量比为（2-20）：100， 其中，含有侧位羟基和末端羧基的丙烯酸酯共聚物的聚合用单体包含丙烯酸羟乙酯，丙烯酸羟丙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟丙酯和甲基丙烯酸羟丁酯中的一种或多种， 且在聚合过程中使用分子量控制剂巯基乙酸或巯基丙酸中的一种或多种。
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