台湾积体电路制造股份有限公司于淳获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利研磨液监控装置、CMP系统及在线监控研磨液的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115556000B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210158158.6，技术领域涉及：B24B49/12；该发明授权研磨液监控装置、CMP系统及在线监控研磨液的方法是由于淳;陈鼎文;郭启文设计研发完成，并于2022-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本研磨液监控装置、CMP系统及在线监控研磨液的方法在说明书摘要公布了：本发明实施例涉及一种研磨液监控装置、一种CMP系统及一种在线监控研磨液的方法。所述研磨液监控装置包含研磨液计量单元、多个光源及至少一个光学检测器。所述研磨液计量单元经配置以容纳研磨液。所述光源经配置以将光束发射于所述研磨液计量单元中的所述研磨液上。所述光源包含经配置以发射具有第一波长的第一光束的第一光源及经配置以发射具有长于所述第一波长的第二波长的第二光束的第二光源。所述至少一个光学检测器经配置以检测由所述研磨液中的研磨粒子散射的所述光束的强度。
本发明授权研磨液监控装置、CMP系统及在线监控研磨液的方法在权利要求书中公布了：1.一种研磨液监控装置，其包括： 研磨液计量单元，其经配置以容纳研磨液； 多个光源，其经配置以将光束发射于所述研磨液计量单元中的所述研磨液上，其中所述光源包括经配置以发射具有第一波长的第一光束的第一光源及经配置以发射具有与所述第一波长相同的第二波长的第二光束的第二光源； 至少一个截光器，其放置于所述光源与所述研磨液计量单元之间，其中所述截光器的数量少于所述光源的数量；及 至少一个光学检测器，其经配置以检测由所述研磨液中的研磨粒子散射的所述光束的强度， 其中所述第一光源将所述第一光束穿过所述至少一个截光器发射至所述研磨液计量单元，且所述第二光源将所述第二光束直接发射至所述研磨液计量单元。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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