安徽国芯光刻技术有限公司章广飞获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉安徽国芯光刻技术有限公司申请的专利一种DMD直写混波曝光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115309010B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211079934.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种DMD直写混波曝光方法是由章广飞;王运钢;薛业保;李文静设计研发完成，并于2022-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种DMD直写混波曝光方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种DMD直写混波曝光方法，沿DMD扫描方向，将DMD分割成若干独立微镜区，相邻的独立微镜区之间不相交；将若干不同波长的入射光，分别照射至DMD上各独立微镜区内；各独立微镜区反射的不同波长入射光，随DMD扫描，依次照射至被感光面上同一感光区；各独立微镜区反射的不同波长入射光，在被感光面上同一感光区依次叠加相同的曝光图形；经过感光面上的上一感光区的独立微镜区，随DMD扫描，进入下一感光区并进行曝光，本感光区获得与上一感光区相同或不同形状的曝光图形；本发明的DMD直写混波曝光方法，解决现有技术中DMD多波混合直写曝光中存在的多种波长入射光光路耦合不便的问题。
本发明授权一种DMD直写混波曝光方法在权利要求书中公布了：1.一种DMD直写混波曝光方法，其特征在于，沿DMD扫描方向，将DMD分割成若干独立微镜区，相邻的独立微镜区之间不相交且具有间距，所述间距宽度为相邻两不同波长的入射光曝光延时时间与DMD扫描速度之积； 将若干不同波长的入射光，分别照射至DMD上各独立微镜区内；各独立微镜区反射的不同波长入射光，随DMD扫描，依次照射至被感光面上同一感光区；各独立微镜区反射的不同波长入射光，在被感光面上同一感光区依次叠加相同的曝光图形； 经过感光面上的上一感光区的独立微镜区，随DMD扫描，进入下一感光区并进行曝光，本感光区获得与上一感光区相同或不同形状的曝光图形。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人安徽国芯光刻技术有限公司，其通讯地址为：230000 安徽省合肥市包河经济开发区中关村协同智汇园B4栋5层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号