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龙图腾网获悉上海联影医疗科技股份有限公司申请的专利放射治疗系统的粒子源模型训练方法及剂量分布确定方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115497599B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211192042.0，技术领域涉及：G16H20/40；该发明授权放射治疗系统的粒子源模型训练方法及剂量分布确定方法是由施智;李江峰设计研发完成，并于2022-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本放射治疗系统的粒子源模型训练方法及剂量分布确定方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种放射治疗系统的粒子源模型训练方法及剂量分布确定方法，该方法，基于输入能量和预设源模型，获取粒子源对应的百分深度计算曲线和离轴比计算曲线；获取放射治疗系统在输入能量作用下的百分深度测量曲线、离轴比测量曲线和输出因子测量值；根据百分深度计算曲线和百分深度测量曲线的差异，以及离轴比计算曲线和离轴比测量曲线的差异，调节预设源模型中决定粒子源的分布的关联参数，直至差异均处于预设误差范围；基于输出因子测量值和调节后的预设源模型，确定输出因子的校正因子；基于校正因子校正调节后的预设源模型，得到粒子源模型。基于输出因子的调节滞后，避免受百分深度曲线和离轴比曲线的影响，提高建模速度和精度。

本发明授权放射治疗系统的粒子源模型训练方法及剂量分布确定方法在权利要求书中公布了：1.一种放射治疗系统的粒子源模型训练方法，其特征在于，所述方法包括： 基于输入能量和预设源模型，获取所述粒子源对应的百分深度计算曲线和离轴比计算曲线； 获取所述放射治疗系统在所述输入能量作用下的百分深度测量曲线、离轴比测量曲线和输出因子测量值； 根据所述百分深度计算曲线和所述百分深度测量曲线的差异，以及所述离轴比计算曲线和所述离轴比测量曲线的差异，调节所述预设源模型中决定所述粒子源的分布的关联参数，直至所述差异均处于预设误差范围； 基于所述输出因子测量值和调节后的预设源模型，确定输出因子的校正因子； 基于所述校正因子校正所述调节后的预设源模型，得到所述粒子源模型； 所述粒子源包括污染子源，所述污染子源包括污染光子源和或污染电子源，所述根据所述百分深度计算曲线和所述百分深度测量曲线的差异，以及所述离轴比计算曲线和所述离轴比测量曲线的差异，调节所述预设源模型中决定所述粒子源的分布的关联参数，包括： 对于所述放射治疗系统工作在光子照射模式的情况，基于所述百分深度计算曲线的建成区和所述百分深度测量曲线的建成区的差异，调节所述预设源模型中所述污染电子源的权重和所述污染电子源的大小，使基于调节后的预设源模型所得到的所述百分深度计算曲线的建成区和所述百分深度测量曲线的建成区的差异处于第一预设区域误差范围内；和或， 对于所述放射治疗系统工作在电子照射模式的情况，基于所述百分深度计算曲线的污染光子尾和所述百分深度测量曲线的污染光子尾的差异，调节所述预设源模型中所述污染光子源的权重和所述污染光子源的大小，使基于调节后的预设源模型所得到的所述百分深度计算曲线的污染光子尾和所述百分深度测量曲线的污染光子尾的差异处于第二预设区域误差范围内。

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