光科芯图(北京)科技有限公司王凯诚获国家专利权
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龙图腾网获悉光科芯图(北京)科技有限公司申请的专利一种光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118295214B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310001877.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光刻机是由王凯诚;牛志元;丛敏;谢稳;秦宏鹏;程智;盛乃援;徐兴燃;傅俊隆设计研发完成，并于2023-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻机在说明书摘要公布了：本发明公开一种光刻机，属于半导体制造设备技术领域，包括光源系统、掩膜板装载台和硅片工件台，所述掩膜板装载台位于所述硅片工件台和所述光源系统之间，还包括：隔离罩，所述隔离罩位于所述掩膜板装载台背离光源系统的一侧且与掩膜板装载台可拆卸连接；所述隔离罩与所述掩膜板装载台组成封闭空腔；所述隔离罩朝向所述硅片工件台的一侧设置有曝光光阑。上述光刻机降低了掩模板与硅片之间的热场与气流场对光刻精度的影响。
本发明授权一种光刻机在权利要求书中公布了：1.一种光刻机，用于全息衍射光刻，包括光源系统、掩膜板装载台和硅片工件台，所述掩膜板装载台位于所述硅片工件台和所述光源系统之间，其特征在于，还包括： 隔离罩，所述隔离罩位于所述掩膜板装载台背离光源系统的一侧且与掩膜板装载台可拆卸连接；所述隔离罩与所述掩膜板装载台组成封闭空腔，所述隔离罩的高度为4cm~9.5cm；在光刻作业状态时，所述隔离罩朝向所述硅片工件台一侧表面与位于所述硅片工件台上的硅片表面的距离为2mm~5mm；所述隔离罩朝向所述硅片工件台的一侧设置有曝光光阑。
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