上海众鸿半导体设备有限公司刘厚鑫获国家专利权
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龙图腾网获悉上海众鸿半导体设备有限公司申请的专利一种光刻胶处理方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116730270B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310594114.2，技术领域涉及：B67C9/00；该发明授权一种光刻胶处理方法及装置是由刘厚鑫设计研发完成，并于2023-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻胶处理方法及装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种光刻胶处理方法及装置，涉及半导体技术领域。所述光刻胶处理方法，包括：S1步骤：将用于抽取光刻胶的光刻胶管路插入高于光刻胶瓶的内底面的位置，所述光刻胶瓶容置有光刻胶；S2步骤：当所述光刻胶瓶内光刻胶的高度线下降至低于所述光刻胶管路的下端，发出报警提示；S3步骤：根据所述报警提示，在所述光刻胶瓶的下方加入垫块，使得所述光刻胶管路的下端继续插入所述光刻胶内，有效了提升工艺效率，工艺操作便利性、灵活性大大提升，同时也能避免成本浪费，优化了工艺成本控制。
本发明授权一种光刻胶处理方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶处理方法，其特征在于，包括： S1步骤：将用于抽取光刻胶的光刻胶管路插入高于光刻胶瓶的内底面的位置，所述光刻胶瓶容置有光刻胶； S2步骤：当所述光刻胶瓶内光刻胶的高度线下降至低于所述光刻胶管路的下端，发出报警提示； S3步骤：根据所述报警提示，在所述光刻胶瓶的下方加入垫块，使得所述光刻胶管路的下端继续插入所述光刻胶内。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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