深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司余仲获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请的专利RPD镀膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117286477B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311221546.5，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权RPD镀膜装置是由余仲;陈厚模;林静影;苏超颖;蔡泽设计研发完成，并于2023-09-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本RPD镀膜装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种RPD镀膜装置，包括镀膜室、炉膛、等离子体发生器、传送机构与输气机构，输气机构包括输气主体，输气主体位述炉膛朝向传送机构的一侧，输气主体具有排气孔，排气孔用于朝向炉膛排放反应气体，输气主体具有沿炉膛与传送机构的排布方向贯穿的反应腔。本发明将输气主体设置于靠近靶锭的高温升华区域，排气孔朝向炉膛扩散反应气体，反应气体扩散至炉膛中央附近，借由炉膛的高热促进反应气体中氧气的解离，可以有效提升氧气的解离度以及在待镀基板上分布的均匀度，降低因离子受到磁场的作用而偏向造成待镀基板上薄膜的不同区块含氧比例不均匀的影响，进而提高待镀基板上所沉积的薄膜的厚度与方阻的均匀性。
本发明授权RPD镀膜装置在权利要求书中公布了：1.RPD镀膜装置，其特征在于，包括： 镀膜室，内部具有真空腔； 炉膛，部分位于所述真空腔内，用于装载并加热靶锭； 等离子体发生器，位于所述镀膜室的侧部，并向所述真空腔内发射等离子束； 传送机构，用于装载待镀基板，所述传送机构与所述炉膛相对设置； 输气机构，所述输气机构包括输气主体，所述输气主体位于所述炉膛朝向所述传送机构的一侧，在所述炉膛与所述传送机构的排布方向上，所述输气主体位于所述等离子体发生器与所述炉膛之间，且靠近所述靶锭的高温升华区域，所述输气主体具有排气孔，所述排气孔用于朝向所述炉膛排放反应气体，所述输气主体具有沿所述炉膛与所述传送机构的排布方向贯穿的反应腔。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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