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龙图腾网获悉复旦大学义乌研究院申请的专利一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223134577U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421743114.0，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置是由张汉同;石建军;左雪芹;陆雪强;包志豪;梅永丰设计研发完成，并于2024-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置在说明书摘要公布了：本实用新型属于远程等离子体技术领域，具体为一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置。本匀气装置采用双层匀气盘结构，包括上层匀气盘、下层匀气盘；上层匀气盘安装在等离子体内腔桶口，通过上层外侧边缘的螺丝孔与外腔其他零件连接；下层匀气盘安装在上层匀气盘下5mm处，通过下层外边缘的螺丝孔连接；下层匀气盘内设计有环形孔洞及微小通气孔洞，环形孔洞用于抽样品空间的气流，降低流速；上盘通过中间孔洞引入气流至集气空间，最后通过斜孔洞以最远途径降低流速扩散到下盘，并且上下盘设定最小中心距离呈现“香槟塔结构”，使得气流尽可能扩散最远途径降低流速，提高沉积均匀性，最后提高样品处理均匀度。

本实用新型一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积设备中等离子体腔体的匀气装置，其特征在于，采用双层匀气盘结构，即包括上层匀气盘，简称上盘，下层匀气盘，简称下盘；其中，上层匀气盘安装在等离子体内腔桶口，通过上层外侧边缘的螺丝孔与外腔其他零件连接；下层匀气盘安装在上层匀气盘下5mm处，同样地，通过下层外边缘的螺丝孔连接；其中： 上层匀气盘含有中腔，用于集中气流，再通过上腔孔洞扩散到空间；具体地，上盘设计为双层结构；其上层和下层之间为集气空间，上层为圆形平板，中心部位开有中心孔洞，下层为圆形板，下层圆形板朝中心方向按一定的倾斜度向上方空间凸起，形成锥体形状；下层圆形板上按一定间距均匀分布有多圈斜孔洞；上盘的最外圈为连接部，用于与等离子体内腔桶口配合连接；上盘的外侧边缘处设有上盘外侧螺丝孔，用于与等离子体内腔连接； 下盘为与上盘同样尺寸的圆板，其外侧开有两圈相同宽带环形孔洞，环形孔洞内侧开有多圈内圈孔洞；下盘外侧边缘处开有下盘螺丝孔洞，用于与等离子体设备外壳配合连接；匀气盘中心与样品台共轴，故下盘的内圈环形孔洞，距中心位置大于等于样品台最大距离，其作用是将强气流引流到样品台下方和降低反应中心气压、流速。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人复旦大学义乌研究院，其通讯地址为：322001 浙江省金华市义乌市城北路中福广场5号楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。