厦门韫茂科技有限公司戴磊获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门韫茂科技有限公司申请的专利一种单腔体式原子层沉积设备匀流结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223134580U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422044475.2，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种单腔体式原子层沉积设备匀流结构是由戴磊设计研发完成，并于2024-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种单腔体式原子层沉积设备匀流结构在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种单腔体式原子层沉积设备匀流结构，涉及半导体设备技术领域。包括腔室以及设置在所述腔室上的腔盖，所述腔盖内设置有相互连通的匀流管道，所述匀流管道连接进气管道以用于导入反应气体；腔室靠近所述腔盖处设置匀流组件以使匀流管道流出的反应气体分散均匀；所述腔盖上设置有加热装置以对导入的匀流管道的气体进行预热。通过本方案可以提高反应气体在腔室内的均匀性。
本实用新型一种单腔体式原子层沉积设备匀流结构在权利要求书中公布了：1.一种单腔体式原子层沉积设备匀流结构，包括腔室以及设置在所述腔室上的腔盖，其特征在于，所述腔盖内设置有相互连通的匀流管道，所述匀流管道连接进气管道以用于导入反应气体；所述腔室内在靠近所述腔盖处设置有匀流组件以使匀流管道流出的反应气体分散均匀；所述腔盖上设置有加热装置以对导入的匀流管道的气体进行预热。
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