厦门韫茂科技有限公司靳伟获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门韫茂科技有限公司申请的专利一种批量式peald设备的平板式等离子体发生装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223142197U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422342381.3，技术领域涉及：H05H1/46；该实用新型一种批量式peald设备的平板式等离子体发生装置是由靳伟;魏澜;赵茂生设计研发完成，并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种批量式peald设备的平板式等离子体发生装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种批量式peald设备的平板式等离子体发生装置，涉及离子体发生装置技术领域。包括：真空腔室、RF线圈、介质平板、进气管路以及栅网板；所述介质平板设置于所述真空腔室的外侧且正对基片位置；所述栅网板设置于所述真空腔室的与所述介质窗口相对的另一侧；所述进气管路延伸入所述真空腔室以向所述真空腔室提供工艺气体；所述RF线圈呈平板型螺旋对称结构安装在所述介质平板远离真空腔室的一侧，以使等离子体均匀分布在正对着基片的介质平板上。通过本方案可以提高反应均匀性，使等离子发生装置结构更加简洁。
本实用新型一种批量式peald设备的平板式等离子体发生装置在权利要求书中公布了：1.一种批量式peald设备的平板式等离子体发生装置，其特征在于，包括：真空腔室、RF线圈、介质平板以及栅网板；其中， 所述介质平板设置于所述真空腔室的外侧且正对基片位置，其设置有介质窗口以用于耦合射频波进入真空腔室； 所述栅网板设置于所述真空腔室上，且与所述介质窗口相对的另一侧，用于控制等离子体对基片的轰击密度以减小基片的温升； 所述RF线圈适于在射频电源驱动下向所述真空腔室提供激发电磁场使真空腔室内的内工艺气体产生电离以形成等离子体，所述RF线圈呈平板型结构安装在所述介质平板远离真空腔室的一侧，以使等离子体均匀分布在正对着基片的介质平板上。
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