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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利纹路识别模组及其制备方法和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115066713B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080003070.6，技术领域涉及：G06V40/13；该发明授权纹路识别模组及其制备方法和显示装置是由海晓泉;马森;凌秋雨;王雷;王迎姿设计研发完成，并于2020-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本纹路识别模组及其制备方法和显示装置在说明书摘要公布了：一种纹路识别模组100，包括：基底1；光学传感结构2，位于基底1之上且在纹路识别区域A内；光路结构3，位于光学传感结构2背离基底1的一侧、至少在纹路识别区域A内且未覆盖绑定区域C，光路结构3配置为具有多个透光通道Q且射向光路结构3的光线仅能从透光通道通Q过；光路结构3包括：层叠设置的至少两层遮光层31，31a，31b，31c和位于每相邻两层遮光层31，31a，31b，31c之间的透光层32，32a，32b，最靠近光学传感结构2的遮光层31a上设置有呈阵列排布的第一透光孔311a，最远离光学传感结构2的遮光层31b上设置有与第一透光孔311a一一对应的第二透光孔311b，第一透光孔311a与其所对应的第二透光孔311b限定出透光通道Q，第一透光孔311a与其所对应的第二透光孔311b在基底1上的正投影不重叠。一种纹路识别模组100的制备方法和显示装置。

本发明授权纹路识别模组及其制备方法和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种纹路识别模组，划分有纹路识别区域和位于所述纹路识别区域周边的周边区域，所述周边区域包括绑定区域，其中，包括： 基底； 光学传感结构，位于所述基底之上且在所述纹路识别区域内；所述光学传感结构包括沿远离所述基底方向依次层叠设置的栅极、栅绝缘层、有源层、源漏极、第一绝缘层、第一电极、半导体层、第二电极、保护层、第二绝缘层、钝化层、偏置电压线、和阻隔层； 光路结构，位于所述光学传感结构背离所述基底的一侧、至少在所述纹路识别区域内且未覆盖所述绑定区域，所述光路结构配置为具有多个透光通道且射向光路结构的光线能从透光通道通过； 所述光路结构包括：层叠设置的至少两层遮光层和位于每相邻两层遮光层之间的透光层，最靠近所述光学传感结构的遮光层上设置有呈阵列排布的第一透光孔，最远离所述光学传感结构的遮光层上设置有与所述第一透光孔一一对应的第二透光孔，所述第一透光孔与其所对应的第二透光孔限定出透光通道，所述第一透光孔在所述基底上的正投影与所对应的第二透光孔在所述基底上的正投影不重叠； 绑定电极，位于所述绑定区域内，所述绑定电极与所述偏置电压线所在同一膜层； 所述绑定区域包括栅极驱动芯片绑定区域，位于所述栅极驱动芯片绑定区域内的绑定电极包括第一绑定电极；所述第一绑定电极与所述基底之间具有位于栅极所在膜层的第一连接电极，位于源漏极所在膜层的第二连接电极，位于第一电极所在膜层的第三连接电极； 所述第一连接电极通过贯穿栅绝缘层的第一过孔与第二连接电极电连接，所述第二连接电极通过贯穿第一绝缘层的第二过孔与所述第三连接电极电连接，所述第三连接电极通过贯穿钝化层的第三过孔与所述第一绑定电极电连接；所述第一连接电极通过栅线和栅线扇出走线与栅极电连接。

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