株式会社日立高新技术田之口亮斗获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利真空处理装置及真空处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116438621B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080107179.4，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权真空处理装置及真空处理方法是由田之口亮斗;坪内宏树;生方孝男设计研发完成，并于2020-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空处理装置及真空处理方法在说明书摘要公布了：提供一种真空处理装置以及真空处理方法，在2个真空腔室之间搬送试样时，能够抑制搬送目的地的真空腔室中的真空度的恶化。因此，控制装置30控制晶圆600从LC102经由LC‑SC间闸阀510向SC101的搬送。此时，控制装置30在将LC‑SC间闸阀510控制为关闭状态的基础上，停止进行了第一时间的基于TMP401A的真空排气，在停止了真空排气的状态下使用压力计103测定LC102的内压，在该测定出的内压达到第一基准值的情况下，将LC‑SC间闸阀510控制为打开状态。
本发明授权真空处理装置及真空处理方法在权利要求书中公布了：1.一种真空处理装置，其特征在于， 所述真空处理装置具有： 第一真空腔室，其具有伴随着向装置内外搬入搬出试样而开闭的第一闸阀； 第二真空腔室，其经由第二闸阀与所述第一真空腔室连接； 真空泵，其对所述第一真空腔室进行真空排气； 压力计，其测定所述第一真空腔室的内压；以及 计算机系统，其控制所述试样从所述第一真空腔室经由所述第二闸阀向所述第二真空腔室的搬送， 所述计算机系统在将所述第二闸阀控制为关闭状态的基础上，停止进行了第一时间的基于所述真空泵的所述真空排气，在停止了所述真空排气的状态下，使用所述压力计测定所述第一真空腔室的内压，在该测定出的内压达到第一基准值的情况下，将所述第二闸阀控制为打开状态， 所述计算机系统在所述测定出的内压未达到所述第一基准值的情况下，反复进行循环处理，直到所述测定出的内压达到所述第一基准值为止，所述循环处理是在进行了第二时间的基于所述真空泵的所述真空排气之后停止，在停止了所述真空排气的状态下测定所述第一真空腔室的内压的处理。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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