FEI 公司J·比肖普获国家专利权
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龙图腾网获悉FEI 公司申请的专利用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113495083B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110285849.8，技术领域涉及：G01N23/2251；该发明授权用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统是由J·比肖普;D·托通简;C·埃尔巴达维;C·罗波;M·托思设计研发完成，并于2021-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统在说明书摘要公布了：用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统。本公开提供了用于在低真空下用带电粒子束对样品进行成像的各种方法和系统。在检测器的检测区域中提供磁场。在所述检测区域中提供气体和等离子体，同时检测从所述样品发射的带电粒子。基于检测的带电粒子形成样品图像。
本发明授权用于等离子体辅助低真空带电粒子显微术的方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种用于对样品进行成像的方法，包含： 在检测空间中提供气体； 在所述检测空间中提供磁场； 用带电粒子束照射所述样品，同时在所述检测空间中提供等离子体，其中所述样品位于所述检测空间中压力小于0.05托的样品室内； 检测响应于所述照射而从所述样品发射到所述检测空间中的带电粒子；以及 基于检测的带电粒子形成样品的图像。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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