通快激光与系统工程有限公司F·齐默尔曼获国家专利权
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龙图腾网获悉通快激光与系统工程有限公司申请的专利用于制造光偏转结构的方法、具有所述光偏转结构的基质的应用以及具有所述光偏转结构的光偏转单元获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115397602B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180026551.3，技术领域涉及：B23K26/00；该发明授权用于制造光偏转结构的方法、具有所述光偏转结构的基质的应用以及具有所述光偏转结构的光偏转单元是由F·齐默尔曼;M·库姆卡尔设计研发完成，并于2021-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于制造光偏转结构的方法、具有所述光偏转结构的基质的应用以及具有所述光偏转结构的光偏转单元在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于制造光偏转结构3的方法，其中，以至少一个脉冲激光束照射基质7的基质材料5，所述方法具有以下步骤：沿着第一路径P1产生多个第一相互作用区域9，其中所述第一相互作用区域9在空间上重叠，在所述相互作用区域中，至少一个激光束分别与基质材料5相互作用；f沿着相对于第一路径偏移并且与第一路径P1在空间上重叠的第二路径P2产生多个第二相互作用区域9，其中所述第二相互作用区域9在空间上重叠；从而产生基质材料5的II型改性，其中，从一个路径P1，P2，PN到另一个路径P1，P2，PN改变至少一个过程参数，以产生预定的偏转几何关系。
本发明授权用于制造光偏转结构的方法、具有所述光偏转结构的基质的应用以及具有所述光偏转结构的光偏转单元在权利要求书中公布了：1.一种用于制造光偏转结构3的方法，其中，以至少一个脉冲激光束照射基质7的基质材料5，所述方法具有以下步骤： a沿着第一路径P1产生多个第一相互作用区域，在所述相互作用区域中，所述至少一个激光束分别与所述基质材料5相互作用，其中所述第一相互作用区域在空间上重叠； b沿着相对于所述第一路径偏移并且与所述第一路径P1在空间上重叠的第二路径P2产生多个第二相互作用区域，其中所述第二相互作用区域在空间上重叠； c沿着另外的、相对于之前所使用的路径P1，P2偏移并且与直接相邻的之前所使用的路径PN-1在空间上重叠的路径PN产生多个另外的相互作用区域，其中所述另外的相互作用区域在空间上重叠； d多次实施所述步骤c，以获得预定数量的路径P1，P2，PN，其中， -产生所述基质材料5的II型改性，其中， -从一个路径P1，P2，PN到另一个路径P1，P2，PN改变至少一个过程参数，以产生预定的偏转几何关系。
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