三星显示有限公司李宽龙获国家专利权
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龙图腾网获悉三星显示有限公司申请的专利沉积设备以及使用该沉积设备的沉积方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113737140B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110585236.6，技术领域涉及：C23C14/34；该发明授权沉积设备以及使用该沉积设备的沉积方法是由李宽龙;金容国;申智勋;李昌眺;赵成洌;河商珍设计研发完成，并于2021-05-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积设备以及使用该沉积设备的沉积方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种沉积设备以及使用该沉积设备的沉积方法。沉积设备包括：防护构件，防护构件在平面图中具有栅格形状，并且包括沿第一方向延伸的短侧边以及沿第二方向延伸的长侧边，短侧边包括第一短侧边和第二短侧边；支架构件，包括联接至第一短侧边的第一支架构件以及联接至第二短侧边的第二支架构件；多个阳极条，沿第二方向延伸并被稳定地安置在第一支架构件和第二支架构件中的每一个上；以及靶构件，覆盖多个阳极条。多个阳极条中的阳极条向外突出超过第一支架构件和第二支架构件中的至少一个，并且阳极条通过支架构件与防护构件物理分离。
本发明授权沉积设备以及使用该沉积设备的沉积方法在权利要求书中公布了：1.一种沉积设备，包括： 防护构件，在平面图中具有栅格形状，并且包括沿第一方向延伸的短侧边以及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的长侧边，所述短侧边包括第一短侧边和第二短侧边； 支架构件，包括设置在所述第一短侧边上并联接至所述第一短侧边的第一支架构件以及设置在所述第二短侧边上并联接至所述第二短侧边的第二支架构件； 多个阳极条，沿所述第二方向延伸并被稳定地安置在所述第一支架构件和所述第二支架构件中的每一个上；以及 靶构件，覆盖所述多个阳极条， 其中所述多个阳极条中的阳极条向外突出超过所述第一支架构件和所述第二支架构件中的至少一个， 所述阳极条通过所述支架构件与所述防护构件物理分离， 其中，所述第一支架构件和所述第二支架构件中的每一个包括固定构件， 孔被限定在所述第一支架构件的所述固定构件中； 凹槽被限定在所述第二支架构件的所述固定构件中， 所述阳极条的第一端向外突出穿过所述第一支架构件的所述孔，以使所述阳极条未完全固定到所述第一支架构件，并且所述阳极条的第二端被稳定地安置在所述第二支架构件的所述凹槽中。
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