株式会社理研江口修太获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社理研申请的专利电波吸收片、多层型电波吸收片及电波吸收片的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115135125B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210160861.0，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权电波吸收片、多层型电波吸收片及电波吸收片的制造方法是由江口修太;宫原裕之;藏前雅规设计研发完成，并于2022-02-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本电波吸收片、多层型电波吸收片及电波吸收片的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种环状硅氧烷的含量被抑制且颜色不均少的电波吸收片。本发明的电波吸收片为与导电体上接触而使用的共振型电波吸收片，该电波吸收片以硅橡胶和羰基铁粉为基材，在22GHz以上且30GHz以下的范围内具有垂直入射时的回波损耗为最大的共振频率，在上述共振频率的回波损耗为15dB以上，相对于上述基材的质量，环状硅氧烷量D3～D20的合计为5000mgkg以下，用分光测色仪测定的上述电波吸收片内的色度的差ΔEgap为2.0以下。
本发明授权电波吸收片、多层型电波吸收片及电波吸收片的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种电波吸收片，其为与导电体上接触而使用的共振型电波吸收片， 所述电波吸收片以硅橡胶和羰基铁粉为基材， 在22GHz以上且30GHz以下的范围内具有垂直入射时的回波损耗为最大的共振频率， 在所述共振频率的回波损耗为15dB以上， 相对于所述基材的质量，环状硅氧烷量D3～D20的合计为5000mgkg以下， 用分光测色仪测定的所述电波吸收片内的色度的差ΔEgap为2.0以下， 其中，所述电波吸收片内的色度的差ΔEgap为所述电波吸收片内的色差ΔE的最大值与最小值的差，所述色差ΔE为所述电波吸收片的色度与未实施热处理的电波吸收片的色度的差。
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