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龙图腾网获悉中北大学申请的专利一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116360024B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310349195.X，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法是由石云波;赵锐;祖凯旋;沈富明;张旭;刘豪设计研发完成，并于2023-04-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法，涉及微位移检测技术领域。包括周期性的多阶梯光栅结构，每个周期的多阶梯光栅结构均包括衬底基板与四阶梯光栅结构，四阶梯光栅结构均设于衬底基板上，四阶梯光栅结构按照单周期内从右到左的顺序，分别为第一阶梯光栅结构、第二阶梯光栅结构、第三阶梯光栅结构、第四阶梯光栅结构，为三个不同高度的层结构阵列。本发明通过结构改进实现对零级衍射光的调控削弱，以达到提高检测系统激光器稳定性的效果，通过对应制备方法所制备的多阶梯周期光栅结构具有零级光调控减弱作用，能够实现一定范围的光强调控，同时便于制备和集成，具备较高的衍射效率，能够应用于集成化高精度位移检测领域中。

本发明授权一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种多阶梯周期光栅结构，其特征在于：包括周期性的多阶梯光栅结构，每个周期的多阶梯光栅结构均包括衬底基板与四阶梯光栅结构，四阶梯光栅结构均设于衬底基板上，四阶梯光栅结构按照单周期内从右到左的顺序，分别为第一阶梯光栅结构（1）、第二阶梯光栅结构（2）、第三阶梯光栅结构（3）、第四阶梯光栅结构（4）； 所述第一阶梯光栅结构（1）包括第一透射层（101）与第一金属反射层（102），所述第一金属反射层（102）涂覆于第一透射层（101）上；所述第一透射层（101）的材料折射率为1.4~1.9，所述第一金属反射层（102）的材料反射率为0.5~1.0；所述第一阶梯光栅结构（1）的周期为0.5μm~2μm；所述第一透射层（101）的厚度h a 与透射材料折射率n满足；所述第一金属反射层（102）的整体厚度为100nm~300nm，其中包括20~80nm的氧化物吸收层；所述氧化物吸收层反射率为0.1~0.3；λ为激光源波长； 所述第二阶梯光栅结构（2）包括第二透射层（201），所述第二透射层（201）与第一透射层（101）为紧贴或一体关系；所述第二透射层（201）与第一透射层（101）的材料相同，所述第二透射层（201）的厚度h a 与透射材料折射率n满足；所述第二阶梯光栅结构（2）的周期为0.5μm~2μm； 所述第三阶梯光栅结构（3）包括第三金属反射层（301），所述第三金属反射层（301）涂覆于衬底基板上，所述第三金属反射层（301）与第一金属反射层（102）的材料与厚度均相同，所述第三阶梯光栅结构（3）的周期为0.5μm~2μm； 所述第四阶梯光栅结构（4）为衬底基板，无透射层与金属反射层，所述第四阶梯光栅结构（4）的周期为0.5μm~2μm。

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