杭州海康威视数字技术股份有限公司张佳豪获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州海康威视数字技术股份有限公司申请的专利滤光微纳结构和滤波器阵列获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119148275B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310706024.8，技术领域涉及：G02B5/20；该发明授权滤光微纳结构和滤波器阵列是由张佳豪;胡传真;贾昊;马强;朱镇峰;蔡宏;毛慧;浦世亮设计研发完成，并于2023-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本滤光微纳结构和滤波器阵列在说明书摘要公布了：本申请公开一种滤光微纳结构和滤波器阵列，涉及低照度彩色成像技术领域。其中滤光微纳结构包括：第一微纳调制层，用于设置于滤波器的透明基底，且第一微纳调制层的材质为透明材料和光损耗材料中的一者；第二微纳调制层，设置于第一微纳调制层的背离透明基底的一侧，第二微纳调制层的材质为透明材料和光损耗材料中的另一者；透明保护层，包覆第一微纳调制层和第二微纳调制层，并与透明基底连接；其中，透明材料的折射率高于透明基底和透明保护层的材料的折射率。本申请可在小尺寸像元下用于彩色成像的宽带滤波，同时提高入射光的透过率，从而实现低照度下的彩色成像功能。
本发明授权滤光微纳结构和滤波器阵列在权利要求书中公布了：1.一种滤光微纳结构，其特征在于，包括： 第一微纳调制层，所述第一微纳调制层设置于滤波器的透明基底，且所述第一微纳调制层的材质为透明材料和光损耗材料中的一者，所述光损耗材料的折射率高于所述透明材料的折射率； 第二微纳调制层，所述第二微纳调制层设置于所述第一微纳调制层的背离所述透明基底的一侧，所述第二微纳调制层的材质为所述透明材料和所述光损耗材料中的另一者； 透明保护层，所述透明保护层包覆所述第一微纳调制层和所述第二微纳调制层，并与所述透明基底连接； 其中，所述透明材料的折射率高于所述透明基底和所述透明保护层的材料的折射率； 所述透明材料为氮化硅Si3N4或者二氧化钛TiO2；和或 所述光损耗材料为多晶硅P-Si、非晶硅α-Si或者锗Ge。
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